DenVakuumbeschichtungDe Maschinneprozess ass opgedeelt an: Vakuumverdampfungsbeschichtung, Vakuumsputterbeschichtung a Vakuumionenbeschichtung.
1. Vakuumverdampfungsbeschichtung
Ënner Vakuumbedingungen gëtt d'Material verdampft, wéi Metall, Metalllegierungen, etc., an dann op d'Substratoberfläche ofgeluecht. D'Verdampfungsbeschichtungsmethod benotzt dacks Widderstandsheizung, an duerno gëtt d'Beschichtungsmaterial duerch Elektronestrahlbombardement beschiedegt, wouduerch et an d'Gasphas verdampft an dann op d'Substratoberfläche ofgeluecht gëtt. Historesch gesinn ass Vakuumdampfofsetzung déi fréier Technologie, déi an der PVD-Method benotzt gouf.
2. Sputterbeschichtung
D'Gas gëtt ënner (Ar)-gefëllte Vakuumbedingungen enger Glühtontladung ausgesat. An dësem Moment ginn d'Argonatome (Ar) an Stickstoffionen (Ar) ëmgewandelt. D'Ionen ginn duerch d'Kraaft vum elektresche Feld beschleunegt a bombardéieren d'Kathodezil, dat aus Beschichtungsmaterial besteet. D'Zil gëtt erausgesputtert an op der Substratoberfläche ofgesat. Déi afalen Ionen an der Sputterbeschichtung, déi normalerweis duerch Glühtontladung kritt gëtt, leien am Beräich vun 10-2 Pa bis 10 Pa. Sou kënnen déi gesputtert Partikelen einfach mat de Gasmoleküle an der Vakuumkammer kollidéieren, wa se op d'Substrat fléien, wouduerch d'Beweegungsrichtung zoufälleg ass an de ofgesate Film einfach gläichméisseg ass.
3. Ionenbeschichtung
Ënner Vakuumbedingungen, ënner Vakuumbedingungen, gëtt eng bestëmmt Plasmaioniséierungstechnik benotzt fir d'Atomer vum Beschichtungsmaterial deelweis an Ionen ze ioniséieren. Gläichzäiteg ginn vill héichenergetesch neutral Atomer produzéiert, déi negativ op de Substrat verankert sinn. Op dës Manéier ginn d'Ionen ënner enger déiwer negativer Verspannung op der Substratoberfläche ofgesat, fir e dënne Film ze bilden.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 23. Mäerz 2023