DevakuumbelægningMaskinprocessen er opdelt i: vakuumfordampningsbelægning, vakuumsputteringsbelægning og vakuumionbelægning.
1. Vakuumfordampningsbelægning
Under vakuumtilstand fordampes materialet, såsom metal, metallegering osv., og aflejres derefter på substratoverfladen. Fordampningsbelægningsmetoden bruger ofte modstandsopvarmning og derefter elektronstrålebombardement af belægningsmaterialet, hvilket får det til at fordampe til en gasfase og derefter aflejres på substratoverfladen. Historisk set er vakuumdampaflejring den tidligere teknologi, der blev brugt i PVD-metoden.
2. Sputterbelægning
Gassen udsættes for en glødeudladning under (Ar)-fyldte vakuumforhold. I dette øjeblik omdannes argonatomerne (Ar) til nitrogenioner (Ar). Ionerne accelereres af kraften fra det elektriske felt og bombarderer katodemålet, som er lavet af belægningsmaterialet. Målet vil blive forstøvet og aflejret på substratoverfladen. Indfaldende ioner i forstøvningsbelægning, generelt opnået ved glødeudladning, ligger i området fra 10-2 Pa til 10 Pa. Således kolliderer de forstøvede partikler let med gasmolekylerne i vakuumkammeret, når de flyver mod substratet, hvilket gør bevægelsesretningen tilfældig og den aflejrede film let ensartet.
3. Ionbelægning
Under vakuumforhold anvendes en bestemt plasmaioniseringsteknik til delvist at ionisere belægningsmaterialets atomer til ioner. Samtidig produceres mange højenergiske neutrale atomer, som er negativt forspændt på substratet. På denne måde aflejres ioner på substratoverfladen under en dyb negativ forspænding for at danne en tynd film.
Opslagstidspunkt: 23. marts 2023