Rrjedha e Procesit të Makinerisë së Veshjes me Spërkatje

1. Substrati i pastrimit të bombardimeve

1.1) Makina e veshjes me spërkatje përdor shkarkim shkëlqimi për të pastruar substratin. Kjo do të thotë, ngarkoni gazin e argonit në dhomë, tensioni i shkarkimit është rreth 1000V. Pas ndezjes së furnizimit me energji, gjenerohet një shkarkim shkëlqimi dhe substrati pastrohet nga bombardimi me jone argoni.

1.2) Në makinat e veshjes me spërkatje që prodhojnë industrialisht zbukurime të nivelit të lartë, jonet e titanit të emetuara nga burimet e harkut të vogël përdoren kryesisht për pastrim. Makina e veshjes me spërkatje është e pajisur me një burim të harkut të vogël, dhe rrjedha e joneve të titanit në plazmën e harkut të gjeneruar nga shkarkimi i burimit të harkut të vogël përdoret për të bombarduar dhe pastruar substratin.

2. Veshje me nitrat titaniumi

Kur depozitohen filma të hollë nitriti titaniumi, materiali i synuar për spërkatje është titaniumi. Materiali i synuar është i lidhur me elektrodën negative të furnizimit me energji të spërkatjes, dhe tensioni i synuar është 400~500V; Fluksi i argonit është i fiksuar, dhe vakumi i kontrollit është (3~8) x10.^-1PA. Substrati është i lidhur me elektrodën negative të furnizimit me energji të polarizuar, me një tension prej 100~200V.

Pas ndezjes së furnizimit me energji të objektivit të titanit që spërkat, gjenerohet një shkarkim shkëlqimi dhe jonet e argonit me energji të lartë bombardojnë objektivin që spërkat, duke spërkatur atomet e titanit nga objektivi.

Gazi i reagimit futet në azot dhe atomet e titanit dhe azoti jonizohen në jone titaniumi dhe jone azoti në dhomën e veshjes. Nën tërheqjen e fushës elektrike me polaritet negativ të aplikuar në substrat, jonet e titanit dhe jonet e azotit përshpejtohen në sipërfaqen e substratit për reaksion kimik dhe depozitim për të formuar një shtresë filmi nitridi titaniumi.

3. Hiqni substratin

Pasi të arrihet trashësia e paracaktuar e filmit, fikni furnizimin me energji të spërkatjes, furnizimin me energji të polarizimit të substratit dhe burimin e ajrit. Pasi temperatura e substratit të bjerë nën 120 ℃, mbushni dhomën e veshjes me ajër dhe nxirrni substratin.

Ky artikull është botuar ngaprodhuesi i makinës së veshjes me spërkatje magnetron– Guangdong Zhenhua.