1. Podłoże czyszczące do bombardowania
1.1) Urządzenie do napylania powłok wykorzystuje wyładowanie jarzeniowe do czyszczenia podłoża. Oznacza to, że wprowadza się argon do komory, napięcie rozładowania wynosi około 1000 V. Po włączeniu zasilania generowane jest wyładowanie jarzeniowe, a podłoże jest czyszczone poprzez bombardowanie jonami argonu.
1.2) W maszynach do napylania powłok, które na skalę przemysłową produkują wysokiej jakości ozdoby, jony tytanu emitowane przez małe źródła łuku elektrycznego są najczęściej wykorzystywane do czyszczenia. Maszyna do napylania powłok jest wyposażona w małe źródło łuku elektrycznego, a strumień jonów tytanu w plazmie łukowej, generowany przez wyładowanie małego źródła łuku elektrycznego, służy do bombardowania i czyszczenia podłoża.
2. Powłoka z azotku tytanu
Podczas osadzania cienkich warstw azotku tytanu, materiałem docelowym do rozpylania jest tarcza tytanowa. Materiał docelowy jest podłączony do elektrody ujemnej zasilacza rozpylającego, a napięcie docelowe wynosi 400–500 V. Strumień argonu jest stały, a próżnia kontrolna wynosi (3–8) x10.-1PA. Podłoże jest podłączone do ujemnej elektrody zasilacza polaryzacji o napięciu 100~200 V.
Po włączeniu zasilania tarczy rozpylającej z tytanu następuje wyładowanie jarzeniowe, a jony argonu o dużej energii bombardują tarczę rozpylającą, rozpylając atomy tytanu z tarczy.
Wprowadzany jest gaz reakcyjny – azot, a atomy tytanu i azot ulegają jonizacji do jonów tytanu i jonów azotu w komorze powlekania. Pod wpływem ujemnego pola elektrycznego przyłożonego do podłoża, jony tytanu i jony azotu przyspieszają w kierunku powierzchni podłoża, gdzie zachodzi reakcja chemiczna i osadzają się, tworząc warstwę azotku tytanu.
3. Wyjmij podłoże
Po osiągnięciu zadanej grubości powłoki, wyłącz zasilanie natrysku, zasilanie polaryzacji podłoża oraz dopływ powietrza. Gdy temperatura podłoża spadnie poniżej 120°C, napełnij komorę natryskową powietrzem i wyjmij podłoże.
Ten artykuł został opublikowany przezproducent maszyn do powlekania metodą rozpylania magnetronowego– Guangdong Zhenhua.
Czas publikacji: 07-04-2023