Wëllkomm zu Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
single_banner

Prozess Flow vun Sputtering Coating Machine

Artikel Quell: Zhenhua Vakuum
Liesen: 10
publizéiert: 23-04-07

1. Bombardement Botzen Substrat

1.1) Sputtering Beschichtungsmaschinn benotzt Glühfluss fir de Substrat ze botzen.Dat ass ze soen, den Argongas an d'Kammer laden, d'Entladungsspannung ass ongeféier 1000V, Nodeems Dir d'Energieversuergung ageschalt huet, gëtt e Glanzentladung generéiert, an de Substrat gëtt duerch Argon-Ionbombardement gebotzt.

真空磁控溅射镀膜设备.png

1.2) Bei Sputterbeschichtungsmaschinnen, déi industriell High-End-Ornamenter produzéieren, gi Titanionen, déi vu klenge Bogenquellen emittéiert ginn, meeschtens fir d'Botzen benotzt.D'Sputtering Beschichtungsmaschinn ass mat enger klenger Bogenquell ausgestatt, an den Titanionstroum am Bogenplasma generéiert vun der klenger Bogenquell Entladung gëtt benotzt fir de Substrat ze bombardéieren an ze botzen.

2. Titannitridbeschichtung

Wann Dir Titannitrid dënn Filmer ofsetzt, ass d'Zilmaterial fir Sputteren Titan Zil.D'Zilmaterial ass mat der negativer Elektrode vun der Sputterkraaftversuergung verbonnen, an d'Zilspannung ass 400 ~ 500V;Den Argon Flux ass fixéiert, an de Kontrollvakuum ass (3 ~ 8) x10-1PA.De Substrat ass mat der negativer Elektrode vun der Bias-Energieversuergung verbonne mat enger Spannung vun 100 ~ 200V.

Nodeems Dir d'Energieversuergung vum sputterende Titanziel ageschalt huet, gëtt e Glanzentladung generéiert, an héichenergesch Argon-Ionen bombardéieren d'Sputterzil, sputteren Titanatome vum Zil.

De Reaktiounsgas Stickstoff gëtt agefouert, an d'Titanatome a Stickstoff ginn an Titanionen a Stickstoffionen an der Beschichtungskammer ioniséiert.Ënnert der Attraktioun vum negativen Viraussetzung elektrescht Feld op de Substrat applizéiert, beschleunegen Titanionen a Stickstoffionen op d'Uewerfläch vum Substrat fir chemesch Reaktioun an Oflagerung fir eng Titannitridfilmschicht ze bilden.

3. Huelt de Substrat eraus

Nodeems Dir déi virbestëmmte Filmdicke erreecht hutt, schalt d'Sputterkraaftversuergung, d'Substratbias-Energieversuergung an d'Loftquell aus.Nodeems d'Temperatur vum Substrat manner wéi 120 ℃ ass, fëllt d'Beschichtungskammer mat Loft an huelt de Substrat eraus.

Dësen Artikel ass publizéiert vunMagnetron Sputtering Beschichtung Maschinn Hiersteller- Guangdong Zhenhua.


Post Zäit: Abrëll-07-2023