Ṣíṣàn ilana ti ẹrọ ti a bo Sputtering

1. Ohun èlò ìfọmọ́ bọ́m̀bù

1.1) Ẹ̀rọ ìbòrí ìfọ́mọ́ra lo ìtújáde ìmọ́lẹ̀ láti nu ìpìlẹ̀ náà. Èyí ni pé, gba agbára gaasi argon sínú yàrá náà, folti ìtújáde náà jẹ́ nǹkan bí 1000V. Lẹ́yìn tí a bá ti tan agbára náà, ìtújáde ìmọ́lẹ̀ yóò bẹ̀rẹ̀, a ó sì fi ìbọn argon ion nu ìpìlẹ̀ náà.

1.2) Nínú àwọn ẹ̀rọ ìbòrí sputtering tí wọ́n ń ṣe àwọn ohun ọ̀ṣọ́ gíga ní ilé iṣẹ́, àwọn ion titanium tí àwọn orísun arc kékeré ń tú jáde ni a sábà máa ń lò fún ìwẹ̀nùmọ́. Ẹ̀rọ ìbòrí sputtering náà ní orísun arc kékeré kan, àti ìṣàn ion titanium nínú plasma arc tí ìtújáde orísun arc kékeré ń mú jáde ni a ń lò láti fi bọ́m̀bù lulẹ̀ àti láti nu substrate náà.

2. Ti a fi titanium nitride bo

Nígbà tí a bá ń fi àwọn fíìmù tín-tín titanium nitride síta, ohun èlò tí a fẹ́ fi sputtering síta ni titanium target. Ohun èlò tí a fẹ́ fi sputtering síta ni a so mọ́ electrode odi ti ipese agbara sputtering, folti afojusun sì jẹ́ 400~500V; ìṣàn argon náà dúró ṣinṣin, a sì ń lo vacuum ìṣàkóso náà (3~8) x10^-1PA. A so sopo naa mọ elekitirodu odi ti ipese agbara bias, pẹlu foliteji ti 100 ~ 200V.

Lẹ́yìn tí wọ́n bá ti tan agbára iná tí ó wà nínú àfojúsùn titanium tí ń tú jáde, ìtújáde ìmọ́lẹ̀ kan yóò jáde, àwọn ion argon tí ó ní agbára gíga yóò sì bo ibi tí ó ń tú jáde, wọn yóò sì tú àwọn átọ̀mù titanium jáde láti inú ibi tí wọ́n ń ta.

A fi nitrogen gaasi reactions sinu reactions, a si fi awọn atomu titanium ati nitrogen sinu ion titanium ati awọn ion nitrogen ninu yara ti a bo. Labẹ ifamọra ti aaye ina mọnamọna odi ti a fi si substrate, awọn ion titanium ati awọn ion nitrogen yara si oju substrate fun reactions kemikali ati deposition lati ṣẹda fẹlẹfẹlẹ fiimu titanium nitride kan.

3. Yọ ohun èlò ìṣàlẹ̀ náà kúrò

Lẹ́yìn tí o bá ti dé ìwọ̀n fíìmù tí a ti pinnu tẹ́lẹ̀, pa ìpèsè agbára sputtering, ìpèsè agbára substrate bias, àti orísun afẹ́fẹ́. Lẹ́yìn tí ìwọ̀n otútù substrate bá ti dín ju 120 ℃ lọ, fi afẹ́fẹ́ kún yàrá ìbòrí náà kí o sì yọ substrate náà kúrò.

Àpilẹ̀kọ yìí ni a tẹ̀ jáde nípasẹ̀olupese ẹrọ ti a bo magnetron sputtering– Guangdong Zhenhua.