1. Substrát na čistenie bombardovania
1.1) Stroj na naprašovanie používa na čistenie substrátu žeravý výboj.To znamená, že nabite argónový plyn do komory, vybíjacie napätie je okolo 1000 V, Po zapnutí napájania sa vytvorí žeravý výboj a substrát sa vyčistí bombardovaním argónovými iónmi.
1.2) V strojoch na naprašovanie, ktoré priemyselne vyrábajú špičkové ozdoby, sa na čistenie väčšinou používajú titánové ióny emitované malými oblúkovými zdrojmi.Stroj na naprašovanie je vybavený malým oblúkovým zdrojom a prúd titánových iónov v oblúkovej plazme generovaný výbojom zo zdroja malého oblúka sa používa na bombardovanie a čistenie substrátu.
2. Povlak z nitridu titánu
Pri nanášaní tenkých vrstiev nitridu titánu je terčovým materiálom pre naprašovanie titánový terč.Cieľový materiál je pripojený k zápornej elektróde zdroja naprašovania a cieľové napätie je 400 ~ 500 V;Tok argónu je pevný a kontrolné vákuum je (3~8) x10-1PA.Substrát je pripojený k zápornej elektróde napájacieho zdroja s napätím 100 ~ 200 V.
Po zapnutí napájania rozprašovacej titánovej terče sa vytvorí žeravý výboj a vysokoenergetické argónové ióny bombardujú rozprašovaciu terč a rozprašujú atómy titánu z terča.
Do reakčného plynu sa zavedie dusík a v poťahovacej komore sa atómy titánu a dusík ionizujú na titánové ióny a ióny dusíka.Pôsobením negatívneho predpätia elektrického poľa aplikovaného na substrát sa titánové ióny a ióny dusíka urýchľujú na povrch substrátu, kde dochádza k chemickej reakcii a depozícii za vzniku filmovej vrstvy nitridu titánu.
3. Vyberte substrát
Po dosiahnutí vopred stanovenej hrúbky filmu vypnite napájanie naprašovania, napájanie predpätia substrátu a zdroj vzduchu.Keď je teplota podkladu nižšia ako 120 ℃, naplňte náterovú komoru vzduchom a vyberte podklad.
Tento článok publikujevýrobca magnetrónového naprašovacieho stroja– Guangdong Zhenhua.
Čas odoslania: Apr-07-2023