1. Очисний субстрат для бомбардування
1.1) Машина для напилення використовує тліючий розряд для очищення підкладки. Тобто, аргон подається в камеру, напруга розряду становить близько 1000 В. Після ввімкнення живлення генерується тліючий розряд, і підкладка очищується бомбардуванням іонами аргону.
1.2) У розпилювальних машинах, які промислово виробляють високоякісні прикраси, іони титану, що випромінюються малими дуговими джерелами, здебільшого використовуються для очищення. Розпилювальна машина оснащена малим дуговим джерелом, і потік іонів титану в дуговій плазмі, що генерується розрядом малого дугового джерела, використовується для бомбардування та очищення підкладки.
2. Покриття з нітриду титану
Під час нанесення тонких плівок нітриду титану, матеріалом мішені для розпилення є титанова мішень. Матеріал мішені підключається до негативного електрода джерела живлення розпилення, а напруга мішені становить 400~500 В; потік аргону фіксований, а контрольний вакуум становить (3~8) x10.-1PA. Підкладка підключена до негативного електрода джерела живлення зміщення з напругою 100~200 В.
Після ввімкнення живлення розпилювальної титанової мішені генерується тліючий розряд, і високоенергетичні іони аргону бомбардують розпилювальну мішень, розпилюючи атоми титану з мішені.
Вводиться реакційний газ азот, і атоми титану та азот іонізуються в камері покриття на іони титану та іони азоту. Під дією негативного електричного поля зміщення, прикладеного до підкладки, іони титану та іони азоту прискорюються до поверхні підкладки для хімічної реакції та осадження, утворюючи шар плівки нітриду титану.
3. Вийміть субстрат
Після досягнення заданої товщини плівки вимкніть джерело живлення розпилення, джерело живлення підкладки та джерело повітря. Після того, як температура підкладки опуститься нижче 120 ℃, заповніть камеру для покриття повітрям та вийміть підкладку.
Цю статтю опубліковановиробник машин для магнетронного напилення– Гуандун Чженьхуа.
Час публікації: 07 квітня 2023 р.