Wëllkomm bei Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
eenzelt_banner

Prozessoflaf vun der Sputterbeschichtungsmaschinn

Artikelquell: Zhenhua Vakuum
Liesen: 10
Verëffentlecht: 23-04-07

1. Substrat fir d'Bombardementreinigung

1.1) Sputterbeschichtungsmaschinne benotzen eng Glüh-Entladung fir de Substrat ze botzen. Dat heescht, Argongas gëtt an d'Kammer gelueden, d'Entladungsspannung ass ongeféier 1000V. Nodeems d'Stroumversuergung ageschalt gouf, gëtt eng Glüh-Entladung generéiert, an de Substrat gëtt duerch Argon-Ionen-Bombardement gereinegt.

真空磁控溅射镀膜设备.png

1.2) A Sputterbeschichtungsmaschinnen, déi industriell High-End-Ornamenter produzéieren, ginn Titanionen, déi vu klenge Bouquellen emittéiert ginn, meeschtens fir d'Botzen benotzt. D'Sputterbeschichtungsmaschinn ass mat enger klenger Bouquell ausgestatt, an den Titanionenstroum am Bouplasma, deen duerch d'Entladung vun der klenger Bouquell generéiert gëtt, gëtt benotzt fir de Substrat ze bombardéieren an ze botzen.

2. Titannitridbeschichtung

Beim Ofsetzen vun Titannitrid-Dënnschichten ass d'Zilmaterial fir d'Sputteren en Titan-Zil. D'Zilmaterial ass un d'negativ Elektrod vun der Sputter-Stroumversuergung ugeschloss, an d'Zilspannung ass 400~500V; den Argonflux ass fixéiert, an de Kontrollvakuum ass (3~8) x10-1PA. De Substrat ass mat der negativer Elektrode vun der Bias-Stroumversuergung verbonnen, mat enger Spannung vun 100~200V.

Nodeems d'Stroumversuergung vum Sputterzil ugeschalt gouf, gëtt eng Glühenentladung generéiert, an héichenergetesch Argonionen bombardéieren d'Sputterzil, wouduerch Titanatome vum Zil erausgesputtert ginn.

De Reaktiounsgas Stickstoff gëtt agefouert, an d'Titanatome an de Stickstoff ginn an der Beschichtungskammer zu Titanionen an Stickstoffionen ioniséiert. Ënnert der Attraktioun vum negativen elektresche Feld, dat um Substrat ugewannt gëtt, beschleunegen d'Titanionen an d'Stickstoffionen op d'Uewerfläch vum Substrat fir eng chemesch Reaktioun an Oflagerung, wouduerch eng Titannitridfilmschicht geformt gëtt.

3. Huelt de Substrat eraus

Nodeems Dir déi virbestëmmt Schichtdicke erreecht hutt, schalt d'Sputter-Stroumversuergung, d'Substrat-Bias-Stroumversuergung an d'Loftquell aus. Soubal d'Substrattemperatur ënner 120 ℃ ass, fëllt d'Beschichtungskammer mat Loft an huelt de Substrat eraus.

Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu Magnetron-Sputterbeschichtungsmaschinnen- Guangdong Zhenhua.


Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 07.04.2023