1. 폭격 세척 기판
1.1) 스퍼터링 코팅 장비는 글로우 방전을 이용하여 기판을 세정합니다. 즉, 챔버에 아르곤 가스를 충전하고 방전 전압을 약 1000V로 설정합니다. 전원을 켜면 글로우 방전이 발생하고, 아르곤 이온 충격으로 기판을 세정합니다.
1.2) 고급 장신구를 산업적으로 생산하는 스퍼터링 코팅 기계에서는 소형 아크 소스에서 방출되는 티타늄 이온이 주로 세척에 사용됩니다. 스퍼터링 코팅 기계에는 소형 아크 소스가 장착되어 있으며, 소형 아크 소스 방전으로 생성된 아크 플라즈마의 티타늄 이온 흐름은 기판에 충격을 가하고 세척하는 데 사용됩니다.
2. 티타늄 질화물 코팅
티타늄 질화물 박막 증착 시, 스퍼터링 타겟 재료는 티타늄 타겟입니다. 타겟 재료는 스퍼터링 전원 공급 장치의 음극에 연결되며, 타겟 전압은 400~500V입니다. 아르곤 플럭스는 고정되어 있으며, 제어 진공도는 (3~8) x10입니다.-1PA. 기판은 100~200V 전압의 바이어스 전원 공급 장치의 음극에 연결됩니다.
스퍼터링 티타늄 타겟에 전원을 공급하면 글로우 방전이 발생하고, 고에너지 아르곤 이온이 스퍼터링 타겟을 폭격하여 타겟에서 티타늄 원자를 스퍼터링합니다.
반응 가스인 질소가 유입되면 코팅 챔버 내에서 티타늄 원자와 질소가 티타늄 이온과 질소 이온으로 이온화됩니다. 기판에 인가된 음의 바이어스 전기장의 인력에 의해 티타늄 이온과 질소 이온이 기판 표면으로 가속되어 화학 반응 및 증착을 통해 티타늄 질화막 층을 형성합니다.
3. 기판을 꺼냅니다
정해진 막 두께에 도달하면 스퍼터링 전원, 기판 바이어스 전원, 공기 공급원을 모두 끕니다. 기판 온도가 120℃ 미만으로 낮아지면 코팅 챔버에 공기를 채우고 기판을 꺼냅니다.
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게시 시간: 2023년 4월 7일