זרימת תהליך של מכונת ציפוי התזה

1. מצע ניקוי הפצצה

1.1) מכונת ציפוי התזה משתמשת בפריקת זוהר כדי לנקות את המצע. כלומר, טעינת גז ארגון לתוך התא, מתח הפריקה הוא כ-1000 וולט. לאחר הפעלת ספק הכוח, נוצרת פריקת זוהר, והמצע מנוקה על ידי הפצצת יוני ארגון.

1.2) במכונות ציפוי התזה המייצרות באופן תעשייתי קישוטים יוקרתיים, יוני טיטניום הנפלטים ממקורות קשת קטנים משמשים בעיקר לניקוי. מכונת ציפוי ההתזה מצוידת במקור קשת קטן, וזרם יוני הטיטניום בפלזמת הקשת שנוצרת על ידי פריקת מקור הקשת הקטן משמש להפצצה וניקוי המצע.

2. ציפוי טיטניום ניטריד

בעת הפקדת שכבות דקות של טיטניום ניטריד, חומר המטרה להתזה הוא מטרת טיטניום. חומר המטרה מחובר לאלקטרודה השלילית של ספק הכוח להתזה, ומתח המטרה הוא 400~500V; שטף הארגון קבוע, וואקום הבקרה הוא (3~8) x10^-1PA. המצע מחובר לאלקטרודה השלילית של ספק הכוח ההטיה, עם מתח של 100~200V.

לאחר הפעלת ספק הכוח של מטרת הטיטניום המתרסקת, נוצרת פריקת זוהר, ויוני ארגון בעלי אנרגיה גבוהה מפציצים את מטרת המתרסקת, ומשחררים אטומי טיטניום מהמטרה.

גז התגובה חנקן מוחדר לתא הציפוי, ואטומי הטיטניום והחנקן מיוננים ליוני טיטניום ויוני חנקן בתא הציפוי. תחת משיכת שדה חשמלי שלילי המופעל על המצע, יוני טיטניום ויוני חנקן מאיצים אל פני המצע לצורך תגובה כימית ושקיעה ליצירת שכבת סרט טיטניום ניטריד.

3. הוציאו את המצע

לאחר הגעה לעובי הסרט שנקבע מראש, יש לכבות את ספק הכוח להתזה, את ספק הכוח להטיית המצע ואת מקור האוויר. לאחר שטמפרטורת המצע נמוכה מ-120 מעלות צלזיוס, יש למלא את תא הציפוי באוויר ולהוציא את המצע.

מאמר זה פורסם על ידייצרן מכונות ציפוי התזה מגנטרון- גואנגדונג ז'נהואה.