Lớp phủ ionmáy móc bắt nguồn từ lý thuyết do DM Mattox đề xuất vào những năm 1960, và các thí nghiệm tương ứng bắt đầu vào thời điểm đó; Cho đến năm 1971, Chambers và những người khác đã công bố công nghệ mạ ion chùm tia điện tử; Công nghệ mạ bốc hơi phản ứng (ARE) đã được chỉ ra trong báo cáo Bunshah năm 1972, khi các loại màng siêu cứng như TiC và TiN được sản xuất; Cũng trong năm 1972, Smith và Molley đã áp dụng công nghệ catốt rỗng trong quy trình phủ. Đến những năm 1980, mạ ion ở Trung Quốc cuối cùng đã đạt đến mức ứng dụng công nghiệp và các quy trình phủ như mạ ion đa hồ quang chân không và mạ ion phóng điện hồ quang đã xuất hiện liên tiếp.
Toàn bộ quá trình làm việc của mạ ion chân không như sau: đầu tiên,bơmbuồng chân không, và sau đóChờ đợiáp suất chân không đến 4X10 ⁻ ³ Pahoặc tốt hơn, cần phải kết nối nguồn điện áp cao và xây dựng một vùng plasma nhiệt độ thấp của khí xả điện áp thấp giữa chất nền và bộ bay hơi. Kết nối điện cực chất nền với điện áp cao âm 5000V DC để tạo thành sự phóng điện phát sáng của cực âm. Các ion khí trơ được tạo ra gần vùng phát sáng âm. Chúng đi vào vùng tối của cực âm và được tăng tốc bởi trường điện và bắn phá bề mặt của chất nền. Đây là một quá trình làm sạch, sau đó đi vào quá trình phủ. Thông qua tác dụng của quá trình gia nhiệt bắn phá, một số vật liệu mạ bị bay hơi. Vùng plasma đi vào các proton, va chạm với các electron và các ion khí trơ, và một phần nhỏ trong số chúng bị ion hóa, Các ion ion hóa này có năng lượng cao sẽ bắn phá bề mặt màng và cải thiện chất lượng màng ở một mức độ nào đó.
Nguyên lý của mạ ion chân không là: trong buồng chân không, sử dụng hiện tượng phóng điện khí hoặc phần ion hóa của vật liệu bay hơi, dưới sự bắn phá của các ion vật liệu bay hơi hoặc các ion khí, đồng thời lắng đọng các chất bay hơi này hoặc chất phản ứng của chúng trên chất nền để thu được một lớp màng mỏng. Lớp phủ ionmáy móckết hợp giữa bốc hơi chân không, công nghệ plasma và phóng điện phát sáng bằng khí, không chỉ cải thiện chất lượng màng mà còn mở rộng phạm vi ứng dụng của màng. Ưu điểm của quy trình này là nhiễu xạ mạnh, độ bám dính màng tốt và nhiều loại vật liệu phủ khác nhau. Nguyên lý mạ ion lần đầu tiên được DM Mattox đề xuất. Có nhiều loại mạ ion. Loại phổ biến nhất là gia nhiệt bay hơi, bao gồm gia nhiệt điện trở, gia nhiệt chùm electron, gia nhiệt chùm electron plasma, gia nhiệt cảm ứng tần số cao và các phương pháp gia nhiệt khác.
Thời gian đăng: 14-02-2023