Ион каплавымашина 1960-нчы елларда Д.М. Маттокс тәкъдим иткән теориядән килеп чыккан, һәм шул вакытта тиешле экспериментлар башланган; 1971 елга кадәр Чемберс һәм башкалар электрон нурлы ион каплау технологиясен бастырып чыгарганнар; Реактив парга әйләндерү каплавы (ARE) технологиясе 1972 елгы Буншах докладында күрсәтелгән, ул вакытта TiC һәм TiN кебек супер каты пленка төрләре җитештерелгән; Шулай ук 1972 елда Смит һәм Молли каплау процессында буш катод технологиясен кулланганнар. 1980-нче елларга Кытайда ион каплау ниһаять сәнәгать куллану дәрәҗәсенә җиткән, һәм вакуумлы күп дугалы ион каплау һәм дугалы разрядлы ион каплау кебек каплау процесслары бер-бер артлы барлыкка килгән.
Вакуум-ион каплауның бөтен эш процессы түбәндәгечә: беренчедән,насосвакуум камерасы, аннарыкөтүвакуум басымын 4X10 ⁻³ Па га кадәряки яхшырак, югары көчәнешле электр белән тәэмин итү системасын тоташтырырга һәм субстрат белән парга әйләндергеч арасында түбән температуралы плазма зонасын төзергә кирәк. Катодның ялтыравыклы разрядын булдыру өчен субстрат электродын 5000В DC тискәре югары көчәнеш белән тоташтырыгыз. Тискәре ялтыравыклы зона янында инерт газ ионнары барлыкка килә. Алар катодның караңгы зонасына керәләр һәм электр кыры белән тизләнәләр һәм субстрат өслеген бомбага тоталар. Бу чистарту процессы, аннары каплау процессына керәләр. Бомба белән җылыту эффекты аша кайбер каплау материаллары парга әйләнә. Плазма зонасы протоннарга керә, электроннар һәм инерт газ ионнары белән бәрелешә, һәм аларның кечкенә өлеше ионлаша. Бу югары энергияле ионлаштырылган ионнар пленка өслеген бомбага тота һәм пленка сыйфатын билгеле бер дәрәҗәдә яхшырта.
Вакуум-ион каплау принцибы түбәндәгечә: вакуум камерасында, газ разрядкасы күренешен яки парланган материалның ионлаштырылган өлешен кулланып, парланган материал ионнары яки газ ионнары белән бомбага тоту астында, бер үк вакытта бу парланган матдәләрне яки аларның реагентларын субстратка куеп, юка пленка алалар. Ион каплавымашинавакуум парга әйләндерү, плазма технологиясе һәм газ балкышы разрядын берләштерә, бу пленка сыйфатын яхшырту белән беррәттән, пленканың куллану даирәсен дә киңәйтә. Бу процессның өстенлекләре - көчле дифракция, пленканың яхшы адгезиясе һәм төрле каплау материаллары. Ион каплау принцибын беренче тапкыр DM Mattox тәкъдим иткән. Ион каплауның күп төрләре бар. Иң киң таралган төре - парга әйләндерү белән җылыту, шул исәптән каршылыклы җылыту, электрон нуры белән җылыту, плазма электрон нуры белән җылыту, югары ешлыклы индукцион җылыту һәм башка җылыту ысуллары.
Бастырылган вакыты: 2023 елның 14 феврале