Uhi ʻana ionmīkini i hoʻomaka ʻia mai ke kumumanaʻo i hāpai ʻia e DM Mattox i nā makahiki 1960, a ua hoʻomaka nā hoʻokolohua pili i kēlā manawa; A hiki i ka makahiki 1971, ua paʻi ʻo Chambers a me nā mea ʻē aʻe i ka ʻenehana o ka electron beam ion plating; Ua kuhikuhi ʻia ka ʻenehana reactive evaporation plating (ARE) ma ka hōʻike Bunshah i ka makahiki 1972, i ka wā i hana ʻia ai nā ʻano kiʻiʻoniʻoni paʻakikī e like me TiC a me TiN; I ka makahiki 1972 hoʻi, ua hoʻohana ʻo Smith lāua ʻo Molley i ka ʻenehana hollow cathode i ke kaʻina hana uhi. I ka makahiki 1980, ua hiki hope ka ion plating ma Kina i ka pae o ka noi ʻoihana, a ua ʻike ʻia nā kaʻina hana uhi e like me ka vacuum multi-arc ion plating a me ka arc-discharge ion plating.
ʻO ke kaʻina hana holoʻokoʻa o ka vacuum ion plating penei: mua,pamuke keʻena vacuum, a lailakalike kaomi hakahaka i 4X10 ⁻ ³ Paa ʻoi aku paha, pono e hoʻohui i ka lako mana uila kiʻekiʻe a kūkulu i kahi wahi plasma haʻahaʻa haʻahaʻa o ke kinoea hoʻokuʻu uila haʻahaʻa ma waena o ka substrate a me ka evaporator. E hoʻohui i ka electrode substrate me ka 5000V DC voltage kiʻekiʻe maikaʻi ʻole e hana i kahi hoʻokuʻu ʻālohilohi o ka cathode. Hoʻokumu ʻia nā ion gas inert kokoke i ka wahi ʻālohilohi maikaʻi ʻole. Komo lākou i ka wahi pouli cathode a hoʻolalelale ʻia e ke kahua uila a hoʻopō i ka ʻili o ka substrate. He hana hoʻomaʻemaʻe kēia, a laila komo i ke kaʻina hana uhi. Ma o ka hopena o ka hoʻomehana hoʻopō, ua mahu kekahi mau mea plating. Komo ka wahi plasma i nā protons, kuʻi me nā electrons a me nā ion gas inert, a ua ionized kahi hapa liʻiliʻi o lākou, ʻO kēia mau ion ionized me ka ikehu kiʻekiʻe e hoʻopō i ka ʻili kiʻiʻoniʻoni a hoʻomaikaʻi i ka maikaʻi o ke kiʻiʻoniʻoni i kekahi ʻano.
ʻO ke kumumanaʻo o ka hoʻopili ʻana i ka ion vacuum: i loko o ke keʻena vacuum, me ka hoʻohana ʻana i ka hanana hoʻokuʻu kinoea a i ʻole ka ʻāpana ionized o ka mea vaporized, ma lalo o ka hoʻouka kaua ʻana o nā ion mea vaporized a i ʻole nā ion gas, i ka manawa like e waiho i kēia mau mea vaporized a i ʻole kā lākou reactants ma ka substrate e loaʻa ai kahi ʻili lahilahi. ʻO ka uhi ionmīkiniHoʻohui pū ʻia ka hoʻoheheʻe ʻana o ka vacuum, ka ʻenehana plasma a me ka hoʻokuʻu ʻana o ke kinoea, ʻaʻole wale ia e hoʻomaikaʻi i ka maikaʻi o ke kiʻiʻoniʻoni, akā hoʻonui pū i ka laulā noi o ke kiʻiʻoniʻoni. ʻO nā pono o kēia kaʻina hana he diffraction ikaika, hoʻopili maikaʻi ʻia ke kiʻiʻoniʻoni, a me nā mea uhi like ʻole. Ua hāpai mua ʻia ke kumumanaʻo o ka ion plating e DM Mattox. Nui nā ʻano o ka ion plating. ʻO ke ʻano maʻamau ka hoʻomehana ʻana o ka evaporation, me ka hoʻomehana kū'ē, ka hoʻomehana ʻana o ke kukuna electron, ka hoʻomehana ʻana o ke kukuna electron plasma, ka hoʻomehana induction alapine kiʻekiʻe a me nā ʻano hoʻomehana ʻē aʻe.
Ka manawa hoʻouna: Pepeluali-14-2023