Инди калай оксиды (Индиум Калай Оксиды, ITO дип атала) - киң диапазонлы, зур допедлы ярымүткәргеч материаллар, югары күренеп торган яктылык үткәрүчәнлеге һәм түбән каршылык характеристикалары белән, һәм шулай итеп кояш күзәнәкләрендә, яссы панель дисплейларында, электрохром тәрәзәләрдә, органик булмаган һәм органик нечкә фильмлы электролуминцент, лазер диодлары һәм ультрафиолет детекторлары. пульслы лазер чүпләнеше, бөтерелү, химик пар парламенты, спрей җылылык декорпациясе, эремчек, парга әйләнү һ.б. Парлану ысулы арасында иң еш кулланыла торган электрон нур парга әйләнү.
ITO пленкасын әзерләү өчен бик күп ысуллар бар, шул исәптән импульслы лазер чүпләнеше, бөтерелү, химик пар парламенты, спир пиролизы, эремчек, парга әйләнү һ.б. ITO фильмнарын парга әйләндерү гадәттә ике ысул белән була: берсе - югары чисталыклы, Sn эритмәсе чыганак материалы буларак, реакция парга әйләнү өчен кислород атмосферасында; икенчесе - югары чисталык In2O3 :, SnO2 катнашмасын турыдан-туры парга әйләндерү чыганагы буларак куллану. Фильмны югары тапшыру һәм түбән каршылык белән ясау өчен, гадәттә, югары субстрат температурасы яки фильмны соңрак аннальләштерү кирәк. Кадр Фалла һ.б. түбән нурларда электрон нурны парга әйләндерү ысулын кулланды, ITO нечкә пленкаларын урнаштыру, чүпләнү темпының, анналь температураның һәм башка процесс параметрларының фильм структурасына, электр һәм оптик үзлекләренә тәэсирен өйрәнү өчен. Алар чүплек ставкасын киметү тапшыруны арттырырга һәм түбән температурада үскән фильмнарның каршылыгын киметергә мөмкинлеген күрсәттеләр. Күренгән яктылыкның тапшыруы 92% тан артык, һәм каршылык 7X10-4Ωcm. алар бүлмә температурасында 350 ~ 550 at үскән ITO фильмнарын ябыштырдылар, һәм анналь температура никадәр югары булса, ITO фильмнарының кристалл милеге яхшырак булуын ачыкладылар. 550 at белән аннальланганнан соң фильмнарның күренгән яктылык тапшыруы 93%, ашлык күләме якынча 37нм. Плазма ярдәмендә кино формалашу вакытында субстрат температурасын киметергә мөмкин, бу фильм формалашуда иң мөһим фактор, һәм кристалллыгы да иң мөһиме. Плазма ярдәмендә метод формалашу вакытында субстрат температурасын да киметергә мөмкин, һәм чүплектән алынган ITO фильмы яхшы күрсәткечкә ия. С. Лакс һ.б. әзерләгән ITO фильмының каршылыгы. бик түбән, 5 * 10- ”Ωсм, һәм 550nm яктылыкның үзләштерүе 5% тан ким түгел, һәм фильмның каршылыгы һәм оптик киңлек киңлеге кислород басымын үзгәртеп үзгәртелә.
IsБу мәкалә бастырылганвакуум каплау машинасы җитештерүчеГуандун Чжэнхуа
Пост вакыты: 23-2024 март