İyon kaplamamakine 1960'larda DM Mattox tarafından ortaya atılan teoriden kaynaklanmış ve o dönemde ilgili deneyler başlamıştır; 1971 yılına kadar Chambers ve diğerleri elektron demeti iyon kaplama teknolojisini yayınlamışlardır; Reaktif buharlaştırma kaplama (ARE) teknolojisi, TiC ve TiN gibi süper sert film tiplerinin üretildiği 1972 yılında Bunshah raporunda belirtilmiştir; Ayrıca 1972'de Smith ve Molley kaplama sürecinde içi boş katot teknolojisini benimsemiştir. 1980'lere gelindiğinde Çin'de iyon kaplama nihayet endüstriyel uygulama düzeyine ulaşmış ve vakumlu çok arklı iyon kaplama ve ark deşarjlı iyon kaplama gibi kaplama işlemleri ardı ardına ortaya çıkmıştır.
Vakum iyon kaplama işleminin tüm çalışma süreci şu şekildedir: ilk olarak,pompavakum odası ve sonraBeklemekvakum basıncı 4X10 ⁻ ³ Pa'yaveya daha iyisi, yüksek voltajlı güç kaynağını bağlamak ve alt tabaka ile buharlaştırıcı arasında düşük voltajlı deşarj gazının düşük sıcaklıkta bir plazma alanı oluşturmak gerekir. Alt tabaka elektrodunu, katodun kızdırma deşarjını oluşturmak için 5000V DC negatif yüksek voltajla bağlayın. Negatif kızdırma alanının yakınında inert gaz iyonları üretilir. Katodun karanlık alanına girerler ve elektrik alanı tarafından hızlandırılırlar ve alt tabakanın yüzeyini bombalarlar. Bu bir temizleme işlemidir ve ardından kaplama işlemine girerler. Bombardıman ısıtmasının etkisiyle bazı kaplama malzemeleri buharlaşır. Plazma alanı protonlara girer, elektronlarla ve inert gaz iyonlarıyla çarpışır ve bunların küçük bir kısmı iyonlaşır, Yüksek enerjili bu iyonize iyonlar film yüzeyini bombalayacak ve film kalitesini bir dereceye kadar iyileştirecektir.
Vakum iyon kaplamanın prensibi şudur: vakum odasında, gaz deşarj fenomeni veya buharlaştırılmış malzemenin iyonize edilmiş kısmı kullanılarak, buharlaştırılmış malzeme iyonlarının veya gaz iyonlarının bombardımanı altında, aynı anda bu buharlaştırılmış maddeleri veya bunların reaktanlarını alt tabaka üzerine biriktirerek ince bir film elde edilir. İyon kaplamamakinevakum buharlaştırma, plazma teknolojisi ve gaz kızdırma deşarjını bir araya getirir, bu sadece film kalitesini iyileştirmekle kalmaz, aynı zamanda filmin uygulama aralığını da genişletir. Bu işlemin avantajları güçlü kırınım, iyi film yapışması ve çeşitli kaplama malzemeleridir. İyon kaplama ilkesi ilk olarak DM Mattox tarafından önerildi. Birçok iyon kaplama türü vardır. En yaygın tür, direnç ısıtma, elektron ışını ısıtma, plazma elektron ışını ısıtma, yüksek frekanslı indüksiyon ısıtma ve diğer ısıtma yöntemlerini içeren buharlaştırma ısıtmasıdır.
Gönderi zamanı: 14-Şub-2023