Proseso ng hollow cathode ion coating

Ang proseso ng hollow cathode ion coating ay ang mga sumusunod:

1, Ilagay ang Chin ingots sa pagbagsak.

2, Pag-mount ng workpiece.

3、Pagkatapos lumikas sa 5×10-3Pa, ang argon gas ay ipinapasok sa coating chamber mula sa silver tube, at ang antas ng vacuum ay nasa 100Pa.

4, I-on ang bias power.

5、Pagkatapos i-on ang arc power para pag-apuyin ang hollow cathode discharge. Ang glow discharge ay nabuo sa button tube, Discharge voltage ay 800~1000V, Ang arc-raising current ay 30~50A. Dahil sa hollow cathode effect ng glow discharge, High density ang bombilya sa wall discharge, mataas ang densidad ng mga bomba sa dingding, mataas ang density ng bomba sa dingding. ng vantage tube,Gawing mabilis na magpainit ang dingding ng tubo hanggang sa paglabas ng daloy ng electron, ang discharge mode mula sa glow discharge biglaang pagbabago sa arc discharge, Boltahe ay 40~70V, Kasalukuyan ay 80~300A. Ang temperatura ng silver tube ay umabot sa itaas ng 2300K, Incandescent na batis mula sa isang tubo at mataas na densidad.

6、Pagsasaayos ng antas ng vacuum.Ang antas ng vacuum para sa paglabas ng glow mula sa hollow cathode gun ay humigit-kumulang 100 Pa,At ang antas ng vacuum ng coating ay 8×10-1~2Pa.Samakatuwid,Pagkatapos ng pag-aapoy ng arc discharge,Bawasan ang papasok na antas ng argon sa lalong madaling panahon,Ayusin ang saklaw ng vacuum coating para sa angkop na saklaw.

7、Titanium plated base layer. Ang electron flow papunta sa anodically collapsed Chin metal ingot, Conversion ng kinetic energy sa thermal energy, Evaporation ng Chin metal sa pamamagitan ng pag-init, Ang mga atomo ng singaw ay umaabot sa workpiece upang bumuo ng titanium film.

8、Deposition ng TiN.Ang nitrogen gas ay ibinibigay sa coating chamber,Nitrogen gas at evaporated atoms ay ionized sa nitrogen at titanium ions.Above the crucible,Mas mataas na probabilidad ng inelastic collisions ng titanium vapor atoms na may mga siksik na stream ng low-energy electron,The metal dissociation rate ay~40% ay 2%. mas malamang na mag-react ng chemically sa reaction gas nitrogen,Deposition para makakuha ng nitride mantle film layer.Ang hollow cathode gun ay parehong pinagmumulan ng vaporization，Isa pang pinagmumulan ng ionization.Sa panahon ng coating,Dapat ding ayusin ang current ng electromagnetic coil sa paligid ng crucible,Ituon ang electron beam sa gitna ng pagbagsak, Kaya tumataas ang density ng electron.

9、I-off ang Power.Pagkatapos maabot ng kapal ng pelikula ang paunang natukoy na kapal ng pelikula,I-off ang arc power supply、Bias power supply at air supply.