Працэс нанясення іённага пакрыцця полага катода выглядае наступным чынам:
1、Пакладзеце зліткі Чына ў калапс.
2、Мантаж нарыхтоўкі.
3、Пасля эвакуацыі да 5×10-3Па газ аргон уводзіцца ў камеру для пакрыцця з срэбнай трубкі, і ўзровень вакууму складае каля 100Па.
4、Уключыце сілкаванне зрушэння.
5、Пасля ўключэння сілкавання дугі для запальвання полага катоднага разраду. Тлеючы разрад утвараецца ў кнопачнай трубцы, напружанне разраду складае 800~1000 В, ток узбуджэння дугі складае 30~50 А. Дзякуючы эфекту свячэння полага катода разрад, Высокая шчыльнасць току тлеючага разраду, Высокая шчыльнасць іёнаў пацукоў у срэбнай трубцы бамбардзіруе сценку трубкі Vantage, прымушае сценку трубкі хутка награвацца да выпраменьвання патоку электронаў, рэжым разраду з тлеючага разраду раптоўна змяняецца на дугавы разрад, напружанне 40~70 В, ток 80 ~ 300 А. Тэмпература срэбнай трубкі дасягае вышэй за 2300 К, лямпа напальвання, выпраменьвае струмень электронаў дугі высокай шчыльнасці з трубкі і накіроўваецца да анода.
6、Рэгуляванне ўзроўню вакууму. Узровень вакууму для тлеючага разраду з пісталета з полым катодам складае каля 100 Па, а ступень вакууму пакрыцця складае 8×10-1~2Па. Такім чынам, пасля запальвання дугавога разраду паменшыце ўваходны аргон газу як мага хутчэй, Адрэгулюйце ўзровень вакууму да дыяпазону, прыдатнага для нанясення пакрыцця.
7、Асноўны пласт з тытанавым пакрыццём. Электроны цякуць на анадны згорнуты металічны злітак Chin, пераўтварэнне кінэтычнай энергіі ў цеплавую, выпарэнне металу Chin шляхам награвання, атамы пары дасягаюць нарыхтоўкі з адукацыяй тытанавай плёнкі.
8、Асаджэнне TiN. Газападобны азот падаецца ў камеру для нанясення пакрыцця, газападобны азот і выпараныя атамы іянізуюцца ў іёны азоту і тытана. Над тыглям большая верагоднасць няпругкіх сутыкненняў атамаў пароў тытана са шчыльнымі патокамі электронаў нізкай энергіі, Хуткасць дысацыяцыі металу дасягае 20% ~ 40%. Іоны тытана часцей уступаюць у хімічную рэакцыю з рэакцыйным газам азотам. Асаджэнне для атрымання пласта нітрыднай мантыйнай плёнкі. Гармата з полым катодам адначасова з'яўляецца крыніцай выпарэння， Іншая крыніца іянізацыі.Падчас нанясення пакрыцця ток электрамагнітнай шпулькі вакол тыгля таксама павінен быць адрэгуляваны.Сфакусіруйце пучок электронаў у цэнтр калапсу.Такім чынам, шчыльнасць магутнасці патоку электронаў павялічваецца.
9、Выключэнне. Пасля таго, як таўшчыня плёнкі дасягне зададзенай таўшчыні плёнкі, выключыце крыніцу сілкавання дугі、Крыніца зрушэння і падача паветра.
Час публікацыі: 8 ліпеня 2023 г