O le a le faʻavae galue o le masini faʻapipiʻi ion

Uiga ionmasini na afua mai i le aʻoaʻoga na faʻatulagaina e DM Mattox i le 1960s, ma faʻataʻitaʻiga tutusa na amata i lena taimi; Se'ia o'o i le 1971, na fa'asalalau e Chambers ma isi le fa'atekonolosi o le fa'apipi'i ion beam electron; O le reactive evaporation plating (ARE) tekinolosi na faʻaalia i le lipoti a Bunshah i le 1972, ina ua gaosia ituaiga ata tifaga e pei o TiC ma TiN; I le 1972 foi, na faʻaaogaina ai e Smith ma Molley le tekonolosi o le cathode omo i le faʻagasologa o le ufiufi. E oo atu i le vaitau o le 1980, ua iu lava ina ausia e le faʻapipiʻiina o le ion i Saina le tulaga o le faʻaogaina o fale gaosimea, ma o faiga faʻapipiʻi e pei o le vacuum multi-arc ion plating ma le arc-discharge ion plating na faʻasolosolo faʻaalia.

O le faagasologa atoa o galuega o le vacuum ion plating e faapea: muamua,pamule potu gaogao, ona sosoo ai leafaatalile mamafa o le masini i le 4X10 ⁻ ³ Pape sili atu, e tatau ona faʻafesoʻotaʻi le eletise eletise maualuga ma fausia se vaega maualalo o le vevela o le plasma o le kasa faʻasalalau maualalo i le va o le substrate ma le evaporator. Fa'afeso'ota'i le fa'aeletise fa'apipi'i fa'atasi ma le 5000V DC le lelei maualuga voltage e fa'atupuina ai se fa'amumu fa'apogai o le cathode. E fa'atupuina iona kasa inert i tafatafa o le vaega o le susulu leaga. Latou te ulu atu i totonu o le cathode nofoaga pogisa ma faʻavaveina e le eletise eletise ma osofaʻia luga o le substrate. Ole faiga ole fa'amamāina lea, ona ulufale atu lea ile fa'agasologa o le ufiufi. E ala i le a'afiaga o le fa'avevelaina o le pomu, o nisi mea fa'apipi'i e fa'aasa. O le vaega o le plasma e ulu atu i totonu o protons, faʻafefeteina ma electrons ma inert kasa ions, ma o se vaega itiiti o latou ua ionized, O nei ionized ion ma le malosi maualuga o le a osofaʻia le ata tifaga ma faʻaleleia le lelei o le ata i se tulaga.

O le mataupu faavae o le vacuum ion plating o le: i totonu o le potu gaogao, e faʻaaoga ai le faʻaogaina o le kesi poʻo le vaega faʻafefeteina o le mea faʻafefe, i lalo o le osofaʻiga o mea faʻafefeteina poʻo ions kesi, faʻapipiʻi i le taimi lava e tasi nei mea faʻafefe poʻo latou tali i luga o le substrate e maua ai se ata manifinifi. O le ion coatingmasinituʻufaʻatasia le vacuum evaporation, plasma technology and gas glow discharge, lea e le gata ina faʻaleleia ai le ata tifaga, ae faʻalauteleina ai foi le faʻaogaina o le faʻaogaina o le ata. O le lelei o lenei faagasologa o le malosi o le faʻafefeteina, faʻapipiʻi lelei ata tifaga, ma mea faʻapipiʻi eseese. O le mataupu faavae o le faʻapipiʻiina o ion na muamua faʻatulagaina e DM Mattox. E tele ituaiga o ion plateing. O le ituaiga sili ona taatele o le faʻavevelaina o le vevela, e aofia ai le faʻavevelaina o le tetee, faʻavevela eletise eletise, faʻavevela eletise eletise eletise plasma, faʻavevela faʻavavevave ma isi auala faʻamafanafana.