Indijev kositrov oksid (indijev kositrov oksid, imenovan ITO) je širokopasovni, močno dopiran polprevodniški material tipa n, z visoko prepustnostjo vidne svetlobe in nizko upornostjo, zato se pogosto uporablja v sončnih celicah, ploskih zaslonih, elektrokromatskih oknih, anorganski in organski tankoplastni elektroluminiscenci, laserskih diodah in ultravijoličnih detektorjih ter drugih fotonapetostnih napravah itd. Obstaja veliko metod za pripravo ITO filmov, vključno s pulznim laserskim nanašanjem, razprševanjem, kemičnim nanašanjem s paro, termičnim razkrojem s pršenjem, sol-gel metodo, izhlapevanjem itd. Med metodami izhlapevanja se najpogosteje uporablja izhlapevanje z elektronskim žarkom.
Obstaja veliko načinov za pripravo ITO filmov, vključno s pulznim laserskim nanašanjem, razprševanjem, kemičnim nanašanjem iz pare, razpršilno pirolizo, sol-gel metodo, izhlapevanjem in tako naprej, pri čemer je najpogosteje uporabljena metoda izhlapevanja izhlapevanje z elektronskim žarkom. Priprava ITO filmov z izhlapevanjem se običajno izvaja na dva načina: prvi je uporaba visoko čiste zlitine In, Sn kot izvornega materiala v kisikovi atmosferi za reakcijsko izhlapevanje; drugi je uporaba visoko čiste mešanice In2O3:, SnO2 kot izvornega materiala za neposredno izhlapevanje. Za izdelavo filma z visoko prepustnostjo in nizko upornostjo je običajno potrebna višja temperatura substrata ali pa je potrebno naknadno žarjenje filma. HR Fallah in sodelavci so uporabili metodo elektronskega izhlapevanja pri nizkih temperaturah za nanašanje tankih filmov ITO, da bi preučili vpliv hitrosti nanašanja, temperature žarjenja in drugih procesnih parametrov na strukturo filma, električne in optične lastnosti. Poudarili so, da lahko znižanje hitrosti nanašanja poveča prepustnost in zmanjša upornost filmov, vzgojenih pri nizki temperaturi. Prepustnost vidne svetlobe je več kot 92 %, upornost pa 7X10-4Ωcm. ITO filme, vzgojene pri sobni temperaturi pri 350–550 ℃, so žarili in ugotovili, da višja kot je temperatura žarjenja, boljše so kristalne lastnosti ITO filmov. Prepustnost vidne svetlobe filmov po žarjenju pri 550 ℃ je 93 %, velikost zrn pa je približno 37 nm. Plazemsko podprta metoda lahko med nastajanjem filma zniža tudi temperaturo substrata, kar je najpomembnejši dejavnik pri nastajanju filma, najpomembnejša pa je tudi kristalnost. Plazemsko podprta metoda lahko med nastajanjem filma zniža tudi temperaturo substrata, ITO film, pridobljen z nanašanjem, pa ima dobre lastnosti. Upornost ITO filma, ki so ga pripravili S. Laux in sod. je zelo nizka, 5*10⁻⁻⁻⁻⁹, absorpcija svetlobe pri 550 nm pa je manjša od 5 %, upornost filma in optična pasovna širina pa se spreminjata tudi s spreminjanjem tlaka kisika med nanašanjem.
–Ta članek je objavilproizvajalec strojev za vakuumsko lakiranjeGuangdong Zhenhua
Čas objave: 23. marec 2024