Technológia vákuového nanášania je všeobecne uznávaná pre svoju šetrnosť k životnému prostrediu, vysokú účinnosť, vynikajúcu rovnomernosť filmu a vynikajúcu hustotu filmu. V priemyselných aplikáciách sa zariadenia na vákuové nanášanie vo všeobecnosti delia do dvoch hlavných kategórií: fyzikálne nanášanie z pár (PVD) a chemické nanášanie z pár (CVD).
Systémy fyzikálneho nanášania z pár (PVD) zahŕňajú technológie odparovania, naprašovania a iónového pokovovania. Systémy naparovania využívajú rôzne metódy ohrevu na odparovanie povlakových materiálov, ako je napríklad odporové zahrievanie, odparovanie elektrónovým lúčom (E-lúč), indukčné zahrievanie a oblúkové odparovanie. Systémy naprašovania sa na druhej strane spoliehajú na plazmou indukovanú ejekciu cieľových atómov a zahŕňajú jednosmerné (DC) naprašovanie, rádiofrekvenčné (RF) naprašovanie, magnetrónové naprašovanie a reaktívne naprašovanie. Systémy iónového pokovovania kombinujú mechanizmy plazmy a odparovania alebo naprašovania na zlepšenie priľnavosti a hustoty filmu, pričom typické technológie zahŕňajú katódové oblúkové iónové pokovovanie, magnetrónové naprašovanie a iónové pokovovanie s dutou katódou.
Systémy chemickej depozície z pár (CVD) zahŕňajú chemické reakcie plynných prekurzorov za vzniku tenkých pevných vrstiev na povrchu substrátu. Medzi bežné technológie CVD patrí chemická depozícia z pár za atmosférického tlaku (APCVD), chemická depozícia z pár za nízkeho tlaku (LPCVD), chemická depozícia z pár s plazmovým efektom (PECVD), chemická depozícia z pár s organickými kovmi (MOCVD) a atómová vrstvová depozícia (ALD), pričom každá z nich je vhodná pre rôzne materiálové systémy a procesné požiadavky.
Technológie vákuového nanášania sa vo veľkej miere uplatňujú v širokej škále odvetví vrátane automobilového priemyslu, elektroniky a spotrebnej elektroniky (ako sú smartfóny), polovodičov, domácich spotrebičov, sanitárnej keramiky, chemických výrobkov dennej spotreby, dekoratívnych komponentov a flexibilných filmových materiálov.
-Tento článok bol publikovaný spoločnosťouvýrobca zariadení na vákuové nanášanieVákuum Zhenhua
Čas uverejnenia: 2. apríla 2026