Vakua tegaĵteknologio estas vaste agnoskita pro sia media amikeco, alta efikeco, bonega filmhomogeneco kaj supera filmdenseco. En industriaj aplikoj, vakuaj tegaĵekipaĵoj estas ĝenerale klasifikitaj en du ĉefajn kategoriojn: Fizika Vapora Deponado (PVD) kaj Kemia Vapora Deponado (CVD).
Sistemoj por fizika vapora demetado (PVD) inkluzivas vaporiĝon, ŝprucadon kaj jonajn tegajn teknologiojn. Vaporiĝaj tegaj sistemoj uzas diversajn hejtajn metodojn por vaporigi tegajn materialojn, kiel ekzemple rezistanca hejtada vaporiĝo, elektronfaska vaporiĝo (E-fasko), indukta hejtada vaporiĝo kaj arka vaporiĝo. Ŝprucaj tegaj sistemoj, aliflanke, dependas de plasmo-induktita cela atomelĵeto kaj inkluzivas kontinukurentan (DC) ŝprucadon, radiofrekvencan (RF) ŝprucadon, magnetronan ŝprucadon kaj reaktivajn ŝprucajn procezojn. Jonaj tegaj sistemoj kombinas plasmon kaj vaporiĝon aŭ ŝprucajn mekanismojn por plibonigi filmadheron kaj densecon, kun tipaj teknologioj inkluzive de katoda arka jontegaĵo, magnetrona ŝprucado kaj kava katoda jontegaĵo.
Sistemoj por Kemia Vapora Deponado (KVA) implikas kemiajn reakciojn de gasaj antaŭuloj por formi solidajn maldikajn filmojn sur substrataj surfacoj. Oftaj KVA-teknologioj inkluzivas Atmosferpreman Kemian Vaporan Deponadon (APCVD), Malaltpreman Kemian Vaporan Deponadon (LPCVD), Plasme Plifortigitan Kemian Vaporan Deponadon (PECVD), Metal-Organikan Kemian Vaporan Deponadon (MOCVD), kaj Atomtavolan Deponadon (ALD), ĉiu taŭga por malsamaj materialaj sistemoj kaj procezaj postuloj.
Vakuaj tegaĵaj teknologioj estas vaste aplikataj tra vasta gamo de industrioj, inkluzive de aŭtomobila fabrikado, elektroniko kaj konsumelektroniko (kiel ekzemple inteligentaj telefonoj), semikonduktaĵoj, hejmaj aparatoj, sanitaraj varoj, ĉiutagaj kemiaj produktoj, dekoraciaj komponantoj kaj flekseblaj filmmaterialoj.
-Ĉi tiun artikolon publikigisfabrikanto de vakuaj tegaĵaj ekipaĵojZhenhua Vakuo
Afiŝtempo: 2-a de aprilo 2026