Teknologi pelapisan vakum wis diakoni sacara wiyar amarga ramah lingkungan, efisiensi dhuwur, keseragaman film sing apik banget, lan kapadhetan film sing unggul. Ing aplikasi industri, peralatan pelapisan vakum umume diklasifikasikake dadi rong kategori utama: Deposisi Uap Fisik (PVD) lan Deposisi Uap Kimia (CVD).
Sistem Deposisi Uap Fisik (PVD) kalebu teknologi penguapan, sputtering, lan pelapisan ion. Sistem pelapisan penguapan nggunakake macem-macem cara pemanasan kanggo nguap bahan lapisan, kayata penguapan pemanasan resistensi, penguapan sinar elektron (E-beam), penguapan pemanasan induksi, lan penguapan busur. Ing sisih liya, sistem pelapisan sputtering gumantung marang ejeksi atom target sing diinduksi plasma lan kalebu sputtering arus searah (DC), sputtering frekuensi radio (RF), sputtering magnetron, lan proses sputtering reaktif. Sistem pelapisan ion nggabungake mekanisme plasma lan penguapan utawa sputtering kanggo nambah adhesi lan kapadhetan film, kanthi teknologi khas kalebu pelapisan ion busur katodik, pelapisan ion sputtering magnetron, lan pelapisan ion katoda berongga.
Sistem Deposisi Uap Kimia (CVD) nglibatake reaksi kimia saka prekursor gas kanggo mbentuk film tipis padat ing permukaan substrat. Teknologi CVD umum kalebu Deposisi Uap Kimia Tekanan Atmosfer (APCVD), Deposisi Uap Kimia Tekanan Rendah (LPCVD), Deposisi Uap Kimia Peningkatan Plasma (PECVD), Deposisi Uap Kimia Logam-Organik (MOCVD), lan Deposisi Lapisan Atom (ALD), saben-saben cocog karo sistem material lan syarat proses sing beda-beda.
Teknologi pelapisan vakum diterapake sacara ekstensif ing macem-macem industri, kalebu manufaktur otomotif, elektronik lan elektronik konsumen (kayata smartphone), semikonduktor, peralatan rumah tangga, piranti saniter, produk kimia saben dina, komponen dekoratif, lan bahan film fleksibel.
-Artikel iki diterbitake deningprodusen peralatan lapisan vakumVakum Zhenhua
Wektu kiriman: 02-Apr-2026