वैक्यूम कोटिंग उपकरण के प्रकार

वैक्यूम कोटिंग तकनीक अपनी पर्यावरण-अनुकूलता, उच्च दक्षता, उत्कृष्ट फिल्म एकरूपता और बेहतर फिल्म घनत्व के लिए व्यापक रूप से मान्यता प्राप्त है। औद्योगिक अनुप्रयोगों में, वैक्यूम कोटिंग उपकरण को आमतौर पर दो मुख्य श्रेणियों में वर्गीकृत किया जाता है: भौतिक वाष्प जमाव (PVD) और रासायनिक वाष्प जमाव (CVD)।

भौतिक वाष्प जमाव (PVD) प्रणालियों में वाष्पीकरण, स्पटरिंग और आयन प्लेटिंग तकनीकें शामिल हैं। वाष्पीकरण कोटिंग प्रणालियाँ कोटिंग सामग्री को वाष्पीकृत करने के लिए विभिन्न ताप विधियों का उपयोग करती हैं, जैसे प्रतिरोध ताप वाष्पीकरण, इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण (ई-बीम), प्रेरण ताप वाष्पीकरण और आर्क वाष्पीकरण। दूसरी ओर, स्पटरिंग कोटिंग प्रणालियाँ प्लाज्मा-प्रेरित लक्ष्य परमाणु निष्कासन पर निर्भर करती हैं और इनमें प्रत्यक्ष धारा (DC) स्पटरिंग, रेडियो आवृत्ति (RF) स्पटरिंग, मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग और प्रतिक्रियाशील स्पटरिंग प्रक्रियाएँ शामिल हैं। आयन प्लेटिंग प्रणालियाँ फिल्म के आसंजन और घनत्व को बढ़ाने के लिए प्लाज्मा और वाष्पीकरण या स्पटरिंग तंत्रों को संयोजित करती हैं, जिनमें कैथोडिक आर्क आयन प्लेटिंग, मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग आयन प्लेटिंग और खोखले कैथोड आयन प्लेटिंग जैसी विशिष्ट तकनीकें शामिल हैं।

रासायनिक वाष्प जमाव (CVD) प्रणालियों में गैसीय अग्रदूतों की रासायनिक प्रतिक्रियाओं के माध्यम से सब्सट्रेट सतहों पर ठोस पतली परतें बनती हैं। सामान्य CVD प्रौद्योगिकियों में वायुमंडलीय दाब रासायनिक वाष्प जमाव (APCVD), निम्न दाब रासायनिक वाष्प जमाव (LPCVD), प्लाज्मा संवर्धित रासायनिक वाष्प जमाव (PECVD), धातु-कार्बनिक रासायनिक वाष्प जमाव (MOCVD) और परमाणु परत जमाव (ALD) शामिल हैं, जिनमें से प्रत्येक विभिन्न सामग्री प्रणालियों और प्रक्रिया आवश्यकताओं के लिए उपयुक्त है।

वैक्यूम कोटिंग प्रौद्योगिकियों का व्यापक रूप से ऑटोमोटिव विनिर्माण, इलेक्ट्रॉनिक्स और उपभोक्ता इलेक्ट्रॉनिक्स (जैसे स्मार्टफोन), सेमीकंडक्टर, घरेलू उपकरण, सैनिटरी वेयर, दैनिक रासायनिक उत्पाद, सजावटी घटक और लचीली फिल्म सामग्री सहित उद्योगों की एक विस्तृत श्रृंखला में उपयोग किया जाता है।

-यह लेख प्रकाशित किया गया थावैक्यूम कोटिंग उपकरण निर्माताझेनहुआ ​​वैक्यूम