इन्डियम टिन अक्साइड (इन्डियम टिन अक्साइड, जसलाई ITO भनिन्छ) एक फराकिलो ब्यान्ड ग्याप हो, अत्यधिक डोप गरिएको n-प्रकारको अर्धचालक सामग्री, उच्च दृश्य प्रकाश प्रसारण र कम प्रतिरोधात्मकता विशेषताहरू सहित, र यसरी सौर्य कोषहरू, फ्ल्याट प्यानल डिस्प्लेहरू, इलेक्ट्रोक्रोमिक विन्डोजहरू, अजैविक र जैविक पातलो-फिल्म इलेक्ट्रोल्युमिनेसेन्स, लेजर डायोडहरू र पराबैंगनी डिटेक्टरहरू र अन्य फोटोभोल्टिक उपकरणहरू, आदिमा व्यापक रूपमा प्रयोग गरिन्छ। ITO फिल्महरू तयार गर्ने धेरै विधिहरू छन्, जसमा स्पंदित लेजर निक्षेपण, स्पटरिङ, रासायनिक वाष्प निक्षेपण, स्प्रे थर्मल विघटन, सोल-जेल, वाष्पीकरण, आदि समावेश छन्। वाष्पीकरण विधि मध्ये, सबैभन्दा सामान्य रूपमा प्रयोग हुने इलेक्ट्रोन बीम वाष्पीकरण हो।
ITO फिल्म तयार गर्ने धेरै तरिकाहरू छन्, जसमा स्पंदित लेजर निक्षेपण, स्पटरिङ, रासायनिक वाष्प निक्षेपण, स्प्रे पाइरोलिसिस, सोल-जेल, वाष्पीकरण र यस्तै अन्य तरिकाहरू समावेश छन्, जसमध्ये सबैभन्दा बढी प्रयोग हुने वाष्पीकरण विधि इलेक्ट्रोन बीम वाष्पीकरण हो। ITO फिल्महरूको वाष्पीकरण तयारीमा सामान्यतया दुई तरिकाहरू हुन्छन्: एउटा प्रतिक्रिया वाष्पीकरणको लागि अक्सिजन वातावरणमा स्रोत सामग्रीको रूपमा उच्च-शुद्धता In, Sn मिश्र धातुको प्रयोग हो; दोस्रो भनेको प्रत्यक्ष वाष्पीकरणको लागि स्रोत सामग्रीको रूपमा उच्च-शुद्धता In2O3:, SnO2 मिश्रणको प्रयोग हो। उच्च प्रसारण र कम प्रतिरोधात्मकताको साथ फिल्म बनाउनको लागि, सामान्यतया उच्च सब्सट्रेट तापक्रम वा फिल्मको पछिल्ला एनिलिङको आवश्यकता पर्दछ। HR Fallah et al. ले ITO पातलो फिल्महरू जम्मा गर्न, निक्षेपण दर, एनिलिङ तापमान र फिल्मको संरचना, विद्युतीय र अप्टिकल गुणहरूमा अन्य प्रक्रिया प्यारामिटरहरूको प्रभाव अध्ययन गर्न कम तापक्रममा इलेक्ट्रोन बीम वाष्पीकरण विधि प्रयोग गरे। तिनीहरूले औंल्याए कि निक्षेपण दर कम गर्नाले प्रसारण बढाउन सक्छ र कम-तापमान-उब्जाइएको फिल्महरूको प्रतिरोधात्मकता घटाउन सक्छ। दृश्य प्रकाशको प्रसारण क्षमता ९२% भन्दा बढी छ, र प्रतिरोधात्मकता ७X१०-४Ωसेमी छ। तिनीहरूले ३५०~५५०℃ मा कोठाको तापक्रममा उब्जाइएको ITO फिल्महरूलाई एनिल गरे, र पत्ता लगाए कि एनिलिङ तापक्रम जति उच्च हुन्छ, ITO फिल्महरूको क्रिस्टलीय गुण त्यति नै राम्रो हुन्छ। ५५०℃ मा एनिलिङ पछि फिल्महरूको दृश्य प्रकाश प्रसारण क्षमता ९३% हुन्छ, र अन्नको आकार लगभग ३७nm हुन्छ। प्लाज्मा-सहायता प्राप्त विधिले फिल्म निर्माणको क्रममा सब्सट्रेट तापक्रम पनि घटाउन सक्छ, जुन फिल्मको निर्माणमा सबैभन्दा महत्त्वपूर्ण कारक हो, र क्रिस्टलिनिटी पनि सबैभन्दा महत्त्वपूर्ण हुन्छ। प्लाज्मा-सहायता प्राप्त विधिले फिल्म निर्माणको क्रममा सब्सट्रेट तापक्रम पनि घटाउन सक्छ, र निक्षेपणबाट प्राप्त ITO फिल्मको प्रदर्शन राम्रो हुन्छ। S. Laux et al द्वारा तयार गरिएको ITO फिल्मको प्रतिरोधात्मकता। धेरै कम छ, ५*१०-”Ωसेमी, र ५५०nm मा प्रकाशको अवशोषण ५% भन्दा कम छ, र निक्षेपणको समयमा अक्सिजन दबाब परिवर्तन गरेर फिल्मको प्रतिरोधात्मकता र अप्टिकल ब्यान्डविथ पनि परिवर्तन हुन्छ।
- यो लेख प्रकाशित गरिएको होभ्याकुम कोटिंग मेसिन निर्मातागुआंग्डोंग Zhenhua
पोस्ट समय: मार्च-२३-२०२४