IonenbeschichtungMaschinn staamt aus der Theorie, déi vum DM Mattox an den 1960er Joren proposéiert gouf, an entspriechend Experimenter hunn zu där Zäit ugefaangen; Bis 1971 hunn de Chambers an anerer d'Technologie vun der Elektronestrahl-Ionen-Beschichtung publizéiert; D'Reaktiv-Verdampfungs-Beschichtungstechnologie (ARE) gouf am Bunshah-Bericht am Joer 1972 ervirgehuewen, wéi superhaart Filmtypen wéi TiC an TiN produzéiert goufen; Och am Joer 1972 hunn de Smith an de Molley d'Hohlkathodetechnologie am Beschichtungsprozess agefouert. An den 1980er Joren hat d'Ionen-Beschichtung a China endlech den Niveau vun der industrieller Uwendung erreecht, an d'Beschichtungsprozesser wéi Vakuum-Multi-Arc-Ionen-Beschichtung an Arc-Discharge-Ionen-Beschichtung sinn hannereneen opgetrueden.
De ganze Prozess vun der Vakuumionenplatéierung ass wéi follegt: als éischt,Pompeld'Vakuumkammer, an dannwaardenden Vakuumdrock op 4X10⁻³ Paoder besser, ass et néideg, d'Héichspannungsversuergung unzeschléissen an eng Niddregtemperaturplasmafläch mat Niddregspannungsentladungsgas tëscht dem Substrat an dem Verdampfer ze bauen. Verbënnt d'Substratelektrode mat enger negativer Héichspannung vu 5000 V Gläichstroum, fir eng Glühionentladung vun der Kathod ze bilden. Inertgasionen entstinn no beim negativen Glühberäich. Si kommen an den Däischterberäich vun der Kathod an, gi vum elektresche Feld beschleunegt a bombardéieren d'Uewerfläch vum Substrat. Dëst ass e Botzprozess, an da kommen se an de Beschichtungsprozess. Duerch den Effekt vun der Bombardementheizung ginn e puer Beschichtungsmaterialien verdampft. De Plasmaberäich kënnt an d'Protonen, kollidéiert mat Elektronen an Inertgasionen, an e klenge Bestanddeel vun hinnen gëtt ioniséiert. Dës ioniséiert Ionen mat héijer Energie bombardéieren d'Filmoberfläch a verbesseren d'Filqualitéit bis zu engem gewësse Grad.
De Prinzip vun der Vakuumionenbeschichtung ass: an der Vakuumkammer, andeems de Gasentladungsphänomen oder den ioniséierten Deel vum verdampfte Material benotzt gëtt, ginn dës verdampft Substanzen oder hir Reaktanten ënner dem Bombardement vun den Ionen oder Gasionen vum verdampfte Material gläichzäiteg op de Substrat ofgesat, fir e dënne Film ze kréien. D'IonenbeschichtungMaschinnkombinéiert Vakuumverdampfung, Plasmatechnologie a Gasglühentladung, wat net nëmmen d'Filqualitéit verbessert, mä och den Uwendungsberäich vum Film erweidert. D'Virdeeler vun dësem Prozess sinn eng staark Diffraktioun, eng gutt Filmhaftung a verschidde Beschichtungsmaterialien. De Prinzip vun der Ionenplatéierung gouf fir d'éischt vum DM Mattox proposéiert. Et gëtt vill Aarte vun Ionenplatéierung. Déi heefegst Aart ass Verdampfungsheizung, dorënner Widderstandsheizung, Elektronestrahlheizung, Plasmaelektronestrahlheizung, Héichfrequenz-Induktiounsheizung an aner Heizmethoden.
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 14. Februar 2023