Prozess vun der Beschichtung vun huel Kathoden-Ionen

De Prozess vun der Beschichtung mat Hohlkathodenionen ass wéi follegt:

1. Leet d'Chin-Barren an den Zesummebroch.

2. Montage vum Werkstück.

3. Nodeems d'Vakuuméierung op 5×10⁻³Pa ausgeléist gouf, gëtt Argongas aus dem Sëlwerröhrchen an d'Beschichtungskammer agefouert, an de Vakuumniveau ass ongeféier 100 Pa.

4. Schalt d'Bias-Energie un.

5. Nodeems de Boustroum ageschalt gouf, gëtt d'Hohlkathodenentladung ugezündet. D'Glühlampe gëtt am Knäppchenröhr generéiert. D'Entladungsspannung ass 800~1000V, de Boustroum ass 30~50A. Wéinst dem Hohlkathodeneffekt vun der Glühlampe ass d'Stroumdicht vun der Glühlampe héich. Déi héich Dicht vun de Rat-Ionen am Sëlwerröhrchen bombardéiert d'Wand vum Vantageröhrchen. D'Röhrenwand gëtt séier op d'Emissioun vun Elektronen erwiermt. Den Entladungsmodus vun der Glühlampe ännert sech plötzlech an eng Bouenentladung. D'Spannung ass 40~70V, de Stroum ass 80~300A. D'Temperatur vum Sëlwerröhrchen erreecht iwwer 2300K. Glühlampe emittéiert e Stroum vun héichdichte Bouelektronen aus dem Röhrchen, deen an d'Anode geschoss gëtt.

6. Astellung vum Vakuumniveau. De Vakuumniveau fir d'Glühentladung vun der Hohlkathodenpistoul ass ongeféier 100 Pa, an de Vakuumgrad vun der Beschichtung ass 8 × 10-1 ~ 2 Pa. Dofir, nom Zünden vun der Bouentladung, den agestréimten Argongas sou séier wéi méiglech reduzéieren, an de Vakuumniveau op e Beräich upassen, deen fir d'Beschichtung gëeegent ass.

7. Titan-plated Basisschicht. Elektronen fléissen op den anodesch zesummegefallene Chin-Metallbarren, Ëmwandlung vu kinetischer Energie an thermesch Energie, Verdampfung vum Chin-Metall duerch Erhëtzen, Dampatome erreechen d'Werkstéck a bilden e Titanfilm.

8. Oflagerung vun TiN. Stéckstoffgas gëtt an d'Beschichtungskammer geliwwert, Stéckstoffgas an verdampft Atomer ginn a Stéckstoff- an Titanionen ioniséiert. Iwwer dem Tiegel ass d'Wahrscheinlechkeet vun inelastesche Kollisiounen vun Titandampatome mat dichten Stréim vun Elektronen mat niddereger Energie méi héich. D'Metalldissoziatiounsquote ass bis zu 20% ~ 40%. Titanionen reagéiere méi wahrscheinlech chemesch mam Reaktiounsgasstickstoff. Oflagerung fir eng Nitridmantelfilmschicht ze kréien. Déi huel Kathodenkanoun ass souwuel eng Verdampfungsquell wéi och eng aner Ioniséierungsquell. Wärend der Beschichtung soll de Stroum vun der elektromagnetescher Spul ronderëm den Tiegel och ugepasst ginn. Den Elektronestrahl fokusséiert op d'Mëtt vum Zesummebroch, sou datt d'Leeschtungsdicht vum Elektronestroum erhéicht gëtt.

9. Ausschalten. Nodeems d'Foliedicke déi virbestëmmte Filmdicke erreecht huet, schalt d'Bougenstroumversuergung, d'Bias-Stroumversuergung an d'Loftversuergung aus.