He aha ke kumu hana o ka mīkini Plating Ion

ka uhi ʻana o ka Ionmīkini ua hoʻokumu ʻia mai ke kumumanaʻo i manaʻo ʻia e DM Mattox i nā makahiki 1960, a ua hoʻomaka nā hoʻokolohua like i kēlā manawa; A hiki i ka makahiki 1971, ua hoʻopuka ʻo Chambers a me nā mea ʻē aʻe i ka ʻenehana o ka electron beam ion plating; Ua kuhikuhi ʻia ka ʻenehana reactive evaporation plating (ARE) ma ka hōʻike Bunshah i ka makahiki 1972, i ka wā i hana ʻia ai nā ʻano kiʻiʻoniʻoni paʻakikī e like me TiC a me TiN; I ka makahiki 1972, ua hoʻohana ʻo Smith lāua ʻo Molley i ka ʻenehana hollow cathode i ka hana uhi. Ma ka makahiki 1980, ua hiki i ka pae o ka hoʻohana ʻana i ka ʻenehana, ka hoʻopili ʻana i ka ion ma Kina, a ua ʻike ʻia nā kaʻina hana e like me ka vacuum multi-arc ion plating a me arc-discharge ion plating.

ʻO ke kaʻina hana holoʻokoʻa o ka vacuum ion plating penei: mua,pamuke keʻena māma, a lailakaliʻo ke kaomi ʻana i ka 4X10 ⁻ ³ Paa ʻoi aku ka maikaʻi, pono ia e hoʻohui i ka mana uila kiʻekiʻe a kūkulu i kahi wahi plasma haʻahaʻa haʻahaʻa o ke kinoea hoʻokuʻu uila haʻahaʻa ma waena o ka substrate a me ka evaporator. E hoʻohui i ka electrode substrate me 5000V DC ʻinoʻino kiʻekiʻe uila e hana i ka hoʻokuʻu ʻana o ka cathode. Hoʻokumu ʻia nā iona kinoea inert ma kahi kokoke i kahi ʻālohilohi maikaʻi ʻole. Hoʻokomo lākou i ka wahi ʻeleʻele cathode a hoʻolalelale ʻia e ke kahua uila a pahū i ka ʻili o ka substrate. He hana hoʻomaʻemaʻe kēia, a laila e komo i ke kaʻina hana uhi. Ma muli o ka hopena o ka hoʻomehana ʻana, ua hoʻohuehu ʻia kekahi mau mea pale. ʻO ka'āpana plasma e komo i nā protons, e hui pū me nā electrons a me nā ion gas inert, a ua hoʻopiliʻia kahi hapa liʻiliʻi o lākou,ʻo kēia mau ionized me ka ikaika kiʻekiʻe e hoʻokuʻu i kaʻili kiʻiʻoniʻoni a hoʻonui i ka maikaʻi o ke kiʻi i kekahiʻano.

ʻO ke kumumanaʻo o ka hoʻoheheʻe ʻana i ka ion: i loko o ke keʻena maʻemaʻe, me ka hoʻohana ʻana i ka mea hoʻokuʻu kinoea a i ʻole ka ʻāpana ionized o ka mea i hoʻoheheʻe ʻia, ma lalo o ka hoʻokuʻu ʻia ʻana o nā mea i hoʻoheheʻe ʻia a i ʻole nā ​​​​iona kinoea, e waiho i kēia mau mea i hoʻoheheʻe ʻia a i ʻole kā lākou reactants ma ka substrate e loaʻa i kahi kiʻi ʻoniʻoni. ʻO ka uhi ionmīkinihui pū i ka evaporation vacuum, ka ʻenehana plasma a me ka hoʻokuʻu ʻana o ke kinoea, ʻaʻole ia e hoʻomaikaʻi wale i ka maikaʻi o ke kiʻiʻoniʻoni, akā hoʻonui pū i ka laulā noi o ke kiʻiʻoniʻoni. ʻO nā mea maikaʻi o kēia kaʻina hana ʻo ia ka diffraction ikaika, adhesion kiʻiʻoniʻoni maikaʻi, a me nā mea uhi like ʻole. Ua hoʻokumu mua ʻia ke kumu o ka ion plating e DM Mattox. Nui nā ʻano o ka ion plating. ʻO ke ʻano maʻamau ka hoʻomehana evaporation, me ka hoʻoulu ʻana i ka pale, ka hoʻomehana uila electron, ka hoʻomehana electron beam plasma, ka hoʻomehana induction kiʻekiʻe a me nā ʻano hana hoʻomehana ʻē aʻe.