① Boa controlabilidade e repetibilidade do grosor da película
Se o espesor da película se pode controlar nun valor predeterminado chámase controlabilidade do espesor da película.O espesor de película necesario pode repetirse moitas veces, o que se chama repetibilidade do espesor da película. Porque a corrente de descarga e a corrente de destino do revestimento de pulverización catódica ao baleiro poden controlarse por separado.Polo tanto, o grosor da película pulverizada é controlable e a película cun espesor predeterminado pódese depositar de forma fiable.Ademais, o revestimento por pulverización catódica pode obter unha película cun grosor uniforme nunha gran superficie.
② Forte adhesión entre a película e o substrato
A enerxía dos átomos pulverizados é 1-2 ordes de magnitude superior á dos átomos evaporados.A conversión de enerxía dos átomos pulverizados de alta enerxía depositados no substrato é moito maior que a dos átomos evaporados, o que xera maior calor e mellora a adhesión entre os átomos pulverizados e o substrato.Ademais, algúns átomos pulverizados de alta enerxía producen diferentes graos de inxección, formando unha capa de pseudodifusión sobre o substrato.Ademais, o substrato sempre limpa e actívase na rexión do plasma durante o proceso de formación da película, que elimina os átomos de pulverización catódica cunha adhesión débil e purifica e activa a superficie do substrato.Polo tanto, a película pulverizada ten unha forte adhesión ao substrato.
③ Pódese preparar unha película de material novo diferente do obxectivo
Se se introduce gas reactivo durante a pulverización catódica para facelo reaccionar co obxectivo, pódese obter unha nova película de material completamente diferente ao obxectivo.Por exemplo, o silicio utilízase como obxectivo de pulverización catódica e osíxeno e argón son colocados xuntos na cámara de baleiro.Despois da pulverización, pódese obter unha película illante de SiOz.Usando o titanio como obxectivo de pulverización, o nitróxeno e o argón colócanse xuntos na cámara de baleiro e pódese obter a película tipo ouro en fase TiN despois da pulverización.
④ Alta pureza e boa calidade da película
Dado que non hai ningún compoñente de crisol no dispositivo de preparación da película de pulverización, os compoñentes do material do quentador de crisol non se mesturarán na capa de película de pulverización.As desvantaxes do revestimento por pulverización catódica son que a velocidade de formación da película é máis lenta que a do revestimento de evaporación, a temperatura do substrato é maior, o gas impuro é fácil de afectar e a estrutura do dispositivo é máis complexa.
Este artigo está publicado por Guangdong Zhenhua, un fabricante deequipos de revestimento ao baleiro
Hora de publicación: Mar-09-2023