① Maayong pagkontrol ug pagkabalik-balik sa gibag-on sa pelikula
Ang pagkontrol sa gibag-on sa pelikula kon makontrol ba kini sa gitakda nang daan nga kantidad gitawag nga film thickness. Ang gikinahanglan nga gibag-on sa pelikula mahimong balikon sa daghang beses, nga gitawag nga film thickness repeatability. Tungod kay ang discharge current ug target current sa vacuum sputtering coating mahimong makontrol nga gilain. Busa, ang gibag-on sa sputtered film makontrol, ug ang pelikula nga adunay gitakda nang daan nga gibag-on mahimong madeposito nga kasaligan. Dugang pa, ang sputter coating makakuha og pelikula nga adunay parehas nga gibag-on sa usa ka dako nga nawong.
② Kusog nga pagdikit tali sa pelikula ug substrate
Ang enerhiya sa mga sputtered atoms kay 1-2 ka order sa magnitude nga mas taas kay sa evaporated atoms. Ang energy conversion sa high-energy sputtered atoms nga gideposito sa substrate mas taas kay sa evaporated atoms, nga makamugna og mas taas nga kainit ug makapalambo sa adhesion tali sa sputtered atoms ug sa substrate. Dugang pa, ang ubang high-energy sputtered atoms makamugna og lain-laing degree sa injection, nga makaporma og pseudodiffusion layer sa substrate. Dugang pa, ang substrate kanunay nga gilimpyohan ug gi-activate sa plasma region atol sa proseso sa pagporma og film, nga nagtangtang sa sputtering atoms nga adunay huyang nga adhesion, ug nagputli ug nag-activate sa substrate surface. Busa, ang sputtered film adunay lig-on nga adhesion sa substrate.
③ Mahimong maandam ang bag-ong materyal nga pelikula nga lahi sa target
Kon ang reactive gas ipasulod atol sa sputtering aron kini mo-react sa target, usa ka bag-ong materyal nga film nga lahi kaayo sa target ang makuha. Pananglitan, ang silicon gigamit isip sputtering target, ug ang oxygen ug argon ibutang nga magkauban sa vacuum chamber. Human sa sputtering, makuha ang SiOz insulating film. Gamit ang titanium isip sputtering target, ang nitrogen ug argon ibutang nga magkauban sa vacuum chamber, ug ang phase TiN gold-like film makuha human sa sputtering.
④ Taas nga kaputli ug maayong kalidad sa pelikula
Tungod kay walay crucible component sa sputtering film preparation device, ang mga component sa crucible heater material dili masagol sa sputtering film layer. Ang mga disbentaha sa sputtering coating mao nga ang film forming speed mas hinay kay sa evaporation coating, mas taas ang temperatura sa substrate, dali ra maapektuhan sa impurity gas, ug mas komplikado ang istruktura sa device.
Kini nga artikulo gipatik sa Guangdong Zhenhua, usa ka tiggama sakagamitan sa pag-vacuum coating
Oras sa pag-post: Mar-09-2023