① Boa controlabilidade e repetibilidade da espessura do filme
A capacidade de controlar a espessura do filme em um valor predeterminado é chamada de controlabilidade da espessura do filme. A possibilidade de repetir a espessura desejada do filme diversas vezes é denominada repetibilidade da espessura do filme. Isso ocorre porque a corrente de descarga e a corrente do alvo na deposição por pulverização catódica a vácuo podem ser controladas separadamente. Portanto, a espessura do filme depositado é controlável e filmes com espessura predeterminada podem ser depositados de forma confiável. Além disso, a deposição por pulverização catódica permite obter um filme com espessura uniforme em uma grande superfície.
② Forte adesão entre o filme e o substrato
A energia dos átomos pulverizados é de uma a duas ordens de magnitude superior à dos átomos evaporados. A conversão de energia dos átomos pulverizados de alta energia depositados no substrato é muito maior do que a dos átomos evaporados, o que gera mais calor e aumenta a adesão entre os átomos pulverizados e o substrato. Além disso, alguns átomos pulverizados de alta energia produzem diferentes graus de injeção, formando uma camada de pseudodifusão no substrato. Ademais, o substrato é sempre limpo e ativado na região do plasma durante o processo de formação do filme, o que remove os átomos pulverizados com baixa adesão e purifica e ativa a superfície do substrato. Portanto, o filme pulverizado apresenta forte adesão ao substrato.
③ É possível preparar um novo filme de material diferente do alvo.
Se um gás reativo for introduzido durante a pulverização catódica para reagir com o alvo, um novo filme de material completamente diferente do alvo pode ser obtido. Por exemplo, utilizando silício como alvo de pulverização catódica, e oxigênio e argônio sendo introduzidos simultaneamente na câmara de vácuo, obtém-se um filme isolante de SiO₂ após a pulverização. Utilizando titânio como alvo de pulverização catódica, nitrogênio e argônio são introduzidos simultaneamente na câmara de vácuo, e um filme de TiN com estrutura semelhante à do ouro pode ser obtido após a pulverização.
④ Alta pureza e boa qualidade do filme
Como não há componente de cadinho no dispositivo de preparação de filmes por pulverização catódica, os componentes do material de aquecimento do cadinho não se misturam na camada de filme pulverizado. As desvantagens da deposição por pulverização catódica são: velocidade de formação do filme mais lenta do que a da deposição por evaporação, temperatura do substrato mais elevada, maior suscetibilidade à contaminação por gases e estrutura do dispositivo mais complexa.
Este artigo foi publicado pela Guangdong Zhenhua, uma fabricante deequipamento de revestimento a vácuo
Data da publicação: 09/03/2023