① Хорошая управляемость и воспроизводимость толщины пленки
Возможность контролировать толщину пленки до заданного значения называется управляемостью толщины пленки. Возможность многократного повторения требуемой толщины пленки называется повторяемостью толщины пленки. Поскольку ток разряда и ток мишени при вакуумном магнетронном напылении можно контролировать раздельно, толщина напыляемой пленки является контролируемой, и можно надежно осаждать пленку заданной толщины. Кроме того, магнетронное напыление позволяет получить пленку равномерной толщины на большой поверхности.
② Прочная адгезия между пленкой и подложкой
Энергия распыленных атомов на 1-2 порядка выше, чем энергия испаренных атомов. Энергетическая эффективность высокоэнергетических распыленных атомов, осажденных на подложку, значительно выше, чем у испаренных атомов, что приводит к выделению большего количества тепла и усилению адгезии между распыленными атомами и подложкой. Кроме того, некоторые высокоэнергетические распыленные атомы обеспечивают различную степень инжекции, образуя псевдодиффузионный слой на подложке. Также подложка постоянно очищается и активируется в плазменной области в процессе формирования пленки, что удаляет распыленные атомы со слабой адгезией, очищает и активирует поверхность подложки. Поэтому распыленная пленка обладает сильной адгезией к подложке.
③ Можно изготовить пленочный материал, отличающийся от целевого.
Если в процессе распыления ввести реактивный газ, который будет взаимодействовать с мишенью, можно получить новую пленку материала, полностью отличающуюся от мишени. Например, в качестве мишени для распыления используется кремний, а в вакуумную камеру одновременно подаются кислород и аргон. После распыления можно получить изоляционную пленку SiO₂. Если в качестве мишени для распыления используется титан, а в вакуумную камеру одновременно подаются азот и аргон, после распыления можно получить пленку TiN, подобную золоту.
④ Пленка высокой чистоты и хорошего качества
Поскольку в устройстве для получения пленочного покрытия методом магнетронного распыления отсутствует тигель, компоненты материала нагревателя тигля не смешиваются с напыляемым пленочным слоем. Недостатками магнетронного распыления являются более низкая скорость формирования пленки по сравнению с испарением, более высокая температура подложки, подверженность влиянию примесей и более сложная структура устройства.
Данная статья опубликована компанией Guangdong Zhenhua, производителем продукции.вакуумное напыление
Дата публикации: 09 марта 2023 г.