Ang Indium tin oxide (Indium Tin Oxide, gitawag nga ITO) usa ka lapad nga gintang sa banda, daghang doped nga n-type nga semiconductor nga mga materyales, nga adunay taas nga makita nga kahayag nga transmittance ug ubos nga resistivity nga mga kinaiya, ug sa ingon kaylap nga gigamit sa solar cells, flat panel display, electrochromic windows, inorganic ug organic thin-film electroluminescence, laser diodes ug mga pamaagi sa pag-andam sa ultraviolet sa mga photovolta ug uban pa. mga pelikula, lakip ang pulsed laser deposition, sputtering, kemikal nga alisngaw deposition, spray thermal decomposition, sol-gel, evaporation, ug uban pa.
Adunay daghang mga paagi sa pag-andam sa ITO film, lakip na ang pulsed laser deposition, sputtering, chemical vapor deposition, spray pyrolysis, sol-gel, evaporation ug uban pa, diin ang kasagarang gigamit nga evaporation method mao ang electron beam evaporation. Ang pag-andam sa evaporation sa mga pelikula sa ITO kasagaran adunay duha ka paagi: ang usa mao ang paggamit sa high-purity In, Sn alloy ingon nga tinubdan nga materyal, sa atmospera sa oksiheno alang sa pag-alisngaw sa reaksyon; ang ikaduha mao ang paggamit sa high-purity In2O3:, SnO2 mixture isip tinubdan nga materyal alang sa direktang evaporation. Aron mahimo ang pelikula nga adunay taas nga transmittance ug mubu nga resistivity, kasagaran nanginahanglan usa ka labi ka taas nga temperatura sa substrate o ang panginahanglan alang sa sunod nga pag-annealing sa pelikula. HR Fallah ug uban pa. gigamit ang electron beam evaporation nga paagi sa ubos nga temperatura sa pagdeposito sa ITO manipis nga mga pelikula, aron tun-an ang epekto sa deposition rate, annealing temperature ug uban pang proseso nga mga parameter sa istruktura sa pelikula, electrical ug optical properties. Gipunting nila nga ang pagpaubos sa rate sa pagdeposito mahimo’g madugangan ang pagpasa ug makunhuran ang resistivity sa mga pelikula nga gipatubo sa ubos nga temperatura. Ang transmittance sa makita nga kahayag labaw pa sa 92%, ug ang resistivity mao ang 7X10-4Ωcm. gi-annealed nila ang mga pelikula sa ITO nga gipatubo sa temperatura sa kwarto sa 350 ~ 550 ℃, ug nahibal-an nga kung mas taas ang temperatura sa annealing, mas maayo ang kristal nga kabtangan sa mga pelikula sa ITO. ang makita nga kahayag transmittance sa mga pelikula human sa annealing sa 550 ℃ mao ang 93%, ug ang grain gidak-on mao ang mahitungod sa 37nm. ang pamaagi nga gitabangan sa plasma mahimo usab nga makunhuran ang temperatura sa substrate sa panahon sa pagporma sa pelikula, nga mao ang labing hinungdanon nga hinungdan sa pagporma sa pelikula, ug ang pagkakristal mao usab ang labing hinungdanon. Ang paagi nga gitabangan sa plasma mahimo usab nga makunhuran ang temperatura sa substrate sa panahon sa pagporma sa pelikula, ug ang pelikula sa ITO nga nakuha gikan sa deposition adunay maayo nga pasundayag. ang resistivity sa ITO film nga giandam ni S. Laux et al. ubos kaayo, 5 * 10- "Ωcm, ug ang pagsuyup sa kahayag sa 550nm mao ang ubos pa kay sa 5%, ug ang resistivity sa pelikula ug ang optical bandwidth usab nausab pinaagi sa pagbag-o sa oxygen pressure sa panahon sa deposition.
–Kini nga artikulo gipagawas nivacuum coating machine manufacturerGuangdong Zhenhua
Oras sa pag-post: Mar-23-2024