Индиево-калаен оксид (индиево-калаен оксид, наричан ITO) е широколентов, силно легиран n-тип полупроводников материал с висока пропускливост на видимата светлина и ниско съпротивление, поради което се използва широко в слънчеви клетки, плоски дисплеи, електрохромни прозорци, неорганична и органична тънкослойна електролуминесценция, лазерни диоди и ултравиолетови детектори и други фотоволтаични устройства и др. Съществуват много методи за получаване на ITO филми, включително импулсно лазерно отлагане, разпрашване, химическо отлагане на пари, термично разлагане чрез спрей, зол-гел, изпаряване и др. Сред методите на изпаряване най-често използваният е електроннолъчевото изпаряване.
Съществуват много начини за приготвяне на ITO филми, включително импулсно лазерно отлагане, разпрашване, химическо отлагане от пари, спрей пиролиза, зол-гел, изпаряване и т.н., като най-често използваният метод за изпаряване е електроннолъчево изпаряване. Приготвянето на ITO филми чрез изпаряване обикновено се осъществява по два начина: единият е използването на високочиста сплав In, Sn като изходен материал в кислородна атмосфера за реакционното изпаряване; вторият е използването на високочиста смес In2O3:, SnO2 като изходен материал за директно изпаряване. За да се получи филм с висока пропускливост и ниско съпротивление, обикновено е необходима по-висока температура на субстрата или последващо отгряване на филма. HR Fallah et al. използваха метода на електроннолъчево изпаряване при ниски температури за отлагане на тънки ITO филми, за да изследват влиянието на скоростта на отлагане, температурата на отгряване и други параметри на процеса върху структурата на филма, електрическите и оптичните свойства. Те посочват, че намаляването на скоростта на отлагане може да увеличи пропускливостта и да намали съпротивлението на филмите, отглеждани при ниска температура. Пропускливостта на видимата светлина е повече от 92%, а съпротивлението е 7X10-4Ωcm. Те отгрявали ITO филмите, отгледани при стайна температура при 350~550℃, и установили, че колкото по-висока е температурата на отгряване, толкова по-добри са кристалните свойства на ITO филмите. Пропускливостта на видимата светлина на филмите след отгряване при 550℃ е 93%, а размерът на зърната е около 37 nm. Плазмено-асистираният метод може също да намали температурата на субстрата по време на образуването на филма, което е най-важният фактор за образуването на филма, а кристалността също е най-важна. Плазмено-асистираният метод може също да намали температурата на субстрата по време на образуването на филма, а ITO филмът, получен чрез отлагане, има добри характеристики. Съпротивлението на ITO филма, приготвен от S. Laux et al. е много ниско, 5*10-”Ωcm, а абсорбцията на светлина при 550nm е по-малка от 5%, а съпротивлението на филма и оптичната честотна лента също се променят чрез промяна на налягането на кислорода по време на отлагането.
–Тази статия е публикувана отпроизводител на машини за вакуумно покритиеГуандун Джънхуа
Време на публикуване: 23 март 2024 г.