Pe a faʻatusatusa i isi tekinolosi ufiufi, o le ufiufi magnetron sputtering e faʻailoaina i foliga nei: o faʻasologa faigaluega e iai se lautele tele o fetuʻunaʻiga faʻaolaola o le saoasaoa o le teuina o ufiufi ma le mafiafia (le tulaga o le vaega ufiufi) e mafai ona faigofie ona pulea, ma e leai se faʻatapulaʻaina o le mamanu i luga o le geometry o le magnetron target e faʻamautinoa ai le tutusa o le ufiufi; e leai se faʻafitauli o vaega mataua i totonu o le vaega o le ata tifaga; toetoe lava o uʻamea uma, alloys, ma seramika e mafai ona faia i mea faʻamoemoe; ma o mea faʻamoemoe e mafai ona gaosia e le DC poʻo le RF magnetron sputtering, lea e mafai ona gaosia ai uʻamea mama poʻo uʻamea uʻamea ma le fua faʻatatau saʻo, faʻapea foʻi ma ata tifaga tali atu uʻamea ma le auai o le kesi. E ala i le DC poʻo le RF sputtering, e mafai ona gaosia ai uʻamea mama poʻo uʻamea uʻamea ma le fua faʻatatau saʻo ma tumau, faʻapea foʻi ma ata tifaga tali atu uʻamea ma le auai o le kesi, e faʻafetaui ai manaʻoga o le eseesega o ata manifinifi ma le saʻo maualuga. O faʻasologa masani o le faagasologa mo le ufiufi magnetron sputtering o: mamafa galue o le 0.1Pa; voltage faʻamoemoe o le 300 ~ 700V; mamafa o le malosiaga faʻamoemoe o le 1 ~ 36W / cm².
O uiga patino o le magnetron sputtering o:
(1) Maualuga le fua faatatau o le teuina. Ona o le faʻaaogaina o electrodes magnetron, e mafai ona maua ai se tafe tele o le ion bombardment target, o lea e matua maualuga ai le fua faatatau o le sputter etching i luga o le fogaeleele o le sini ma le fua faatatau o le teuina o le ata tifaga i luga o le fogaeleele o le substrate.
(2) Maualuga le lelei o le malosiaga. E maualuga le avanoa e feto'ai ai eletise e maualalo le malosi ma atomu kesi, o lea e matua fa'ateleina ai le fua faatatau o le vavae'eseina o kesi. O le mea lea, e matua fa'aitiitia ai le impedance o le discharge gas (po'o le plasma). O le mea lea, o le DC magnetron sputtering pe a fa'atusatusa i le DC dipole sputtering, e tusa lava pe fa'aitiitia le mamafa o le galuega mai le 1~10Pa i le 10-210-1Pa sputtering voltage e fa'aitiitia fo'i mai le afe volts i le selau volts, o le sputtering efficiency ma le deposition rate e fa'ateleina i ni fa'atonuga o le tele.
–O lenei tusiga ua fa'asalalauina egaosi oloa masini ufiufi vacuumGuangdong Zhenhua
Taimi na lafoina ai: Tesema-01-2023

