① Dobrá ovládateľnosť a opakovateľnosť hrúbky filmu
To, či je možné hrúbku filmu regulovať na vopred určenej hodnote, sa nazýva regulovateľnosť hrúbky filmu. Požadovanú hrúbku filmu je možné mnohokrát opakovať, čo sa nazýva opakovateľnosť hrúbky filmu. Výbojový prúd a cieľový prúd vákuového naprašovania je možné regulovať samostatne. Hrúbka naprašovaného filmu je preto regulovateľná a film s vopred určenou hrúbkou je možné spoľahlivo nanášať. Okrem toho je možné naprašovaním dosiahnuť film s rovnomernou hrúbkou na veľkom povrchu.
② Silná priľnavosť medzi fóliou a substrátom
Energia naprašených atómov je o 1 až 2 rády vyššia ako energia odparených atómov. Premena energie vysokoenergetických naprašených atómov nanesených na substrát je oveľa vyššia ako u odparených atómov, čo generuje vyššie teplo a zlepšuje adhéziu medzi naprašenými atómami a substrátom. Okrem toho niektoré vysokoenergetické naprašené atómy vytvárajú rôzne stupne vstrekovania, čím vytvárajú pseudodifúznu vrstvu na substráte. Okrem toho je substrát počas procesu tvorby filmu vždy čistený a aktivovaný v plazmovej oblasti, čo odstraňuje naprašované atómy so slabou adhéziou a čistí a aktivuje povrch substrátu. Preto má naprašený film silnú adhéziu k substrátu.
③ Je možné pripraviť nový materiálový film odlišný od cieľového
Ak sa počas naprašovania zavedie reaktívny plyn, ktorý reaguje s terčom, je možné získať úplne odlišný materiálový film od terča. Napríklad, ako naprašovací terč sa použije kremík a kyslík s argónom sa spoločne privedú do vákuovej komory. Po naprašovaní je možné získať izolačný film SiOz. Použitím titánu ako naprašovacieho terča sa do vákuovej komory spoločne privedú dusík a argón a po naprašovaní je možné získať fázový film TiN podobný zlatu.
④ Vysoká čistota a dobrá kvalita filmu
Keďže zariadenie na prípravu naprašovacej vrstvy neobsahuje téglik, zložky materiálu ohrievača téglika sa v naprašovacej vrstve nezmiešajú. Nevýhodou naprašovania je pomalšia rýchlosť tvorby filmu ako pri odparovaní, vyššia teplota substrátu, ľahší vplyv nečistôt a zložitejšia konštrukcia zariadenia.
Tento článok publikoval Guangdong Zhenhua, výrobcazariadenie na vákuové nanášanie
Čas uverejnenia: 9. marca 2023