Характеристики покрытий, нанесенных методом магнетронного распыления Глава 1

По сравнению с другими технологиями нанесения покрытий, нанесение покрытия методом магнетронного распыления характеризуется следующими особенностями: рабочие параметры имеют большой динамический диапазон регулировки скорости нанесения покрытия, а толщина (состояние покрытой области) может легко контролироваться, и нет конструктивных ограничений на геометрию мишени магнетрона для обеспечения однородности покрытия; нет проблемы с частицами капель в слое пленки; почти все металлы, сплавы и керамика могут быть превращены в материалы мишени; и материал мишени может быть получен методом постоянного или радиочастотного магнетронного распыления, который может генерировать покрытия из чистого металла или сплава с точным соотношением, а также металлические реактивные пленки с участием газа. С помощью постоянного или радиочастотного распыления можно генерировать покрытия из чистого металла или сплава с точным и постоянным соотношением, а также металлические реактивные пленки с участием газа, чтобы удовлетворить требования к разнообразию тонких пленок и высокой точности. Типичные параметры процесса для нанесения покрытия методом магнетронного распыления: рабочее давление 0,1 Па; напряжение мишени 300 ~ 700 В; целевая плотность мощности 1~36 Вт/см².

Особенностями магнетронного распыления являются:

(1) Высокая скорость осаждения. Благодаря использованию магнетронных электродов можно получить очень большой ионный ток бомбардировки мишени, поэтому скорость травления распылением на поверхности мишени и скорость осаждения пленки на поверхности подложки очень высоки.

(2) Высокая эффективность мощности. Вероятность столкновения электронов с низкой энергией и атомов газа высока, поэтому скорость диссоциации газа значительно увеличивается. Соответственно, сопротивление разрядного газа (или плазмы) значительно уменьшается. Поэтому при магнетронном распылении постоянного тока по сравнению с дипольным распылением постоянного тока, даже если рабочее давление снижается с 1~10 Па до 10-210-1 Па, напряжение распыления также снижается с тысяч вольт до сотен вольт, эффективность распыления и скорость осаждения увеличиваются на порядки.

–Эта статья опубликованапроизводитель вакуумных напылительных машинГуандун Чжэньхуа