① Boa controlabilidade e repetibilidade da espessura do filme
A possibilidade de controlar a espessura do filme a um valor predeterminado é chamada de controlabilidade da espessura do filme. A espessura de filme necessária pode ser repetida inúmeras vezes, o que é chamado de repetibilidade da espessura do filme. Isso ocorre porque a corrente de descarga e a corrente alvo do revestimento por pulverização catódica a vácuo podem ser controladas separadamente. Portanto, a espessura do filme pulverizado por pulverização catódica é controlável e o filme com espessura predeterminada pode ser depositado de forma confiável. Além disso, o revestimento por pulverização catódica permite obter um filme com espessura uniforme em uma grande superfície.
② Forte adesão entre filme e substrato
A energia dos átomos pulverizados é de 1 a 2 ordens de magnitude maior do que a dos átomos evaporados. A conversão de energia dos átomos pulverizados de alta energia depositados no substrato é muito maior do que a dos átomos evaporados, o que gera mais calor e melhora a adesão entre os átomos pulverizados e o substrato. Além disso, alguns átomos pulverizados de alta energia produzem diferentes graus de injeção, formando uma camada de pseudodifusão no substrato. Além disso, o substrato é sempre limpo e ativado na região do plasma durante o processo de formação do filme, o que remove os átomos pulverizados com fraca adesão e purifica e ativa a superfície do substrato. Portanto, o filme pulverizado tem forte adesão ao substrato.
③ Novo filme de material diferente do alvo pode ser preparado
Se gás reativo for introduzido durante a pulverização catódica para fazê-lo reagir com o alvo, um novo filme de material completamente diferente do alvo pode ser obtido. Por exemplo, silício é usado como alvo de pulverização catódica, e oxigênio e argônio são colocados juntos na câmara de vácuo. Após a pulverização catódica, um filme isolante de SiOz pode ser obtido. Usando titânio como alvo de pulverização catódica, nitrogênio e argônio são colocados juntos na câmara de vácuo, e um filme de fase TiN semelhante ao ouro pode ser obtido após a pulverização catódica.
④ Alta pureza e boa qualidade de filme
Como não há componente de cadinho no dispositivo de preparação do filme de pulverização catódica, os componentes do material do aquecedor do cadinho não serão misturados na camada do filme de pulverização catódica. As desvantagens do revestimento por pulverização catódica são que a velocidade de formação do filme é mais lenta do que a do revestimento por evaporação, a temperatura do substrato é mais alta, é fácil ser afetado por gases de impurezas e a estrutura do dispositivo é mais complexa.
Este artigo é publicado pela Guangdong Zhenhua, fabricante deequipamento de revestimento a vácuo
Horário da postagem: 09/03/2023