① Goede controleerbaarheid en herhaalbaarheid van de filmdikte
Of de filmdikte op een vooraf bepaalde waarde kan worden geregeld, wordt de regelbaarheid van de filmdikte genoemd. De vereiste filmdikte kan vele malen worden herhaald, wat herhaalbaarheid van de filmdikte wordt genoemd. Dit komt doordat de ontladingsstroom en de doelstroom van de vacuümsputtercoating afzonderlijk kunnen worden geregeld. Daardoor is de dikte van de gesputterde film regelbaar en kan de film met de vooraf bepaalde dikte betrouwbaar worden aangebracht. Bovendien kan de sputtercoating een film met een uniforme dikte op een groot oppervlak verkrijgen.
② Sterke hechting tussen film en substraat
De energie van gesputterde atomen is 1-2 ordes van grootte hoger dan die van verdampte atomen. De energieomzetting van de hoogenergetische gesputterde atomen die op het substraat zijn afgezet, is veel hoger dan die van de verdampte atomen, wat meer warmte genereert en de hechting tussen de gesputterde atomen en het substraat verbetert. Bovendien produceren sommige hoogenergetische gesputterde atomen verschillende injectiegraden, waardoor een pseudodiffusielaag op het substraat ontstaat. Bovendien wordt het substraat tijdens het filmvormingsproces altijd gereinigd en geactiveerd in het plasmagebied, waardoor de sputterende atomen met zwakke hechting worden verwijderd en het substraatoppervlak wordt gezuiverd en geactiveerd. Daarom heeft de gesputterde film een sterke hechting aan het substraat.
③ Er kan een nieuwe materiaalfilm worden bereid die verschilt van het doel
Als tijdens het sputteren reactief gas wordt toegevoegd om het met het target te laten reageren, kan een nieuwe materiaalfilm worden verkregen die volledig verschilt van het target. Zo wordt silicium gebruikt als sputtertarget, en worden zuurstof en argon samen in de vacuümkamer gebracht. Na het sputteren kan een isolerende SiOz-film worden verkregen. Met titanium als sputtertarget worden stikstof en argon samen in de vacuümkamer gebracht, en na het sputteren kan een goudachtige TiN-film worden verkregen.
④ Hoge zuiverheid en goede kwaliteit van de film
Omdat er geen smeltkroescomponent aanwezig is in het sputterfilmvoorbereidingsapparaat, worden de componenten van het smeltkroesverwarmingsmateriaal niet gemengd in de sputterfilmlaag. De nadelen van sputtercoating zijn dat de filmvormingssnelheid lager is dan die van verdampingscoating, de substraattemperatuur hoger is, het materiaal gemakkelijker wordt beïnvloed door onzuiverheden en de structuur van het apparaat complexer is.
Dit artikel is gepubliceerd door Guangdong Zhenhua, een fabrikant vanvacuümcoatingapparatuur
Plaatsingstijd: 09-03-2023