① Киноны зузааныг хянах, давтах чадвар сайтай
Киноны зузааныг урьдчилан тогтоосон утгаар хянах боломжтой эсэхийг хальсны зузааныг хянах чадвар гэж нэрлэдэг. Шаардлагатай хальсны зузааныг олон удаа давтаж болох бөгөөд үүнийг хальсны зузаан давтагдах чадвар гэж нэрлэдэг. Учир нь вакуум цацах бүрхүүлийн ялгарах гүйдэл болон зорилтот гүйдлийг тус тусад нь хянах боломжтой. Тиймээс цацсан хальсны зузааныг хянах боломжтой бөгөөд урьдчилан тодорхойлсон зузаантай хальсыг найдвартай буулгаж болно. Үүнээс гадна, шүршигч бүрээс нь том гадаргуу дээр жигд зузаантай хальс авах боломжтой.
② Кино ба субстрат хооронд хүчтэй наалддаг
Цацсан атомын энерги нь ууршсан атомуудын энергиэс 1-2 дахин их байдаг. Субстрат дээр хуримтлагдсан өндөр энергитэй шүршигч атомуудын энерги хувиралт нь ууршсан атомуудаас хамаагүй өндөр байдаг бөгөөд энэ нь илүү их дулааныг үүсгэж, цацагдсан атомууд болон субстрат хоорондын наалдацыг сайжруулдаг. Нэмж дурдахад зарим өндөр энергитэй шүршигч атомууд нь янз бүрийн түвшний тарилга үүсгэж, субстрат дээр псевдодиффузын давхарга үүсгэдэг. Нэмж дурдахад, хальс үүсгэх явцад субстратыг плазмын бүсэд байнга цэвэрлэж, идэвхижүүлдэг бөгөөд энэ нь сул наалдацтай шүршиж буй атомуудыг зайлуулж, субстратын гадаргууг цэвэрлэж, идэвхжүүлдэг. Тиймээс цацсан хальс нь субстратад хүчтэй наалддаг.
③ Зорилтотоос ялгаатай шинэ материалын хальс бэлтгэж болно
Хэрэв цацах явцад реактив хий нэвтрүүлж, зорилтот объекттой урвалд орвол зорилтот хэмжээнээс огт өөр материаллаг шинэ хальс авах боломжтой. Жишээлбэл, цахиурыг цацах зорилт болгон ашигладаг бөгөөд хүчилтөрөгч, аргоныг вакуум камерт хамтад нь хийдэг. Шүршсэний дараа SiOz тусгаарлагч хальс авч болно. Титаныг шүрших зорилт болгон ашиглан азот, аргоныг хамтад нь вакуум камерт хийж, шүрших дараа фазын TiN алт шиг хальсыг гаргаж авах боломжтой.
④ Өндөр цэвэршилттэй, сайн хальстай
Шүршигч хальс бэлтгэх төхөөрөмжид тигелийн бүрэлдэхүүн хэсэг байхгүй тул тигель халаагчийн материалын бүрдэл хэсгүүд нь шүрших хальсны давхаргад холилдохгүй. Шүрших бүрхүүлийн сул тал нь хальс үүсгэх хурд нь ууршуулах бүрхүүлээс удаан, субстратын температур өндөр, хольцын хийнд амархан өртдөг, төхөөрөмжийн бүтэц нь илүү төвөгтэй байдаг.
Энэхүү нийтлэлийг үйлдвэрлэгч Guangdong Zhenhua нийтлэввакуум бүрэх төхөөрөмж
Шуудангийн цаг: 2023-03-09