Am Verglach mat anere Beschichtungstechnologien ass d'Magnetron-Sputterbeschichtung duerch déi folgend Eegeschafte charakteriséiert: d'Aarbechtsparameter hunn e grousse dynameschen Upassungsberäich, d'Beschichtungsoflagerungsgeschwindegkeet an d'Déckt (den Zoustand vun der beschichteter Fläch) kënne liicht kontrolléiert ginn, an et gëtt keng Designbeschränkung op d'Geometrie vum Magnetron-Zil fir d'Uniformitéit vun der Beschichtung ze garantéieren; et gëtt kee Problem mat Drëpsepartikelen an der Filmschicht; bal all Metaller, Legierungen a Keramik kënnen zu Zilmaterialien ëmgewandelt ginn; an d'Zilmaterial kann duerch DC- oder RF-Magnetron-Sputterung produzéiert ginn, wat reng Metall- oder Legierungsbeschichtunge mat präzisem Verhältnis, souwéi Metallreaktivfilmer mat Gasparticipatioun generéiere kann. Duerch DC- oder RF-Sputterung ass et méiglech, reng Metall- oder Legierungsbeschichtunge mat präzisen a konstante Verhältnisser, souwéi Metallreaktivfilmer mat Gasparticipatioun, ze generéieren, fir d'Ufuerderunge vun der Dënnfilmdiversitéit an héijer Präzisioun ze erfëllen. Typesch Prozessparameter fir Magnetron-Sputterbeschichtung sinn: Aarbechtsdrock vun 0,1 Pa; Zilspannung vun 300~700V; Zilleistungsdicht vun 1~36W/cm².
Déi spezifesch Charakteristike vum Magnetronsputtering sinn:
(1) Héich Oflagerungsquote. Duerch d'Benotzung vu Magnetronelektroden kann e ganz groussen Zilbombardement-Ionenstroum kritt ginn, sou datt d'Sputterätzquote op der Ziloberfläche an d'Filmablagerungsquote op der Substratoberfläche allebéid ganz héich sinn.
(2) Héich Energieeffizienz. D'Kollisiounswahrscheinlechkeet vun Elektronen mat niddereger Energie a Gasatome ass héich, sou datt d'Dissoziatiounsquote vum Gas däitlech eropgeet. Dofir gëtt d'Impedanz vum Entladungsgas (oder Plasma) däitlech reduzéiert. Dofir gëtt beim DC-Magnetronsputtering am Verglach zum DC-Dipolsputtering, och wann den Aarbechtsdrock vun 1~10Pa op 10-210-1Pa reduzéiert gëtt, och d'Sputterspannung vun Dausende vu Volt op Honnerte vu Volt reduzéiert, wouduerch d'Sputtereffizienz an d'Oflagerungsquote ëm Gréisstenuerdnunge eropgoen.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 01. Dezember 2023