① Ֆիլմի հաստության լավ կառավարելիություն և կրկնելիություն
Թաղանթի հաստության նախապես որոշված արժեքով կառավարելիությունը կոչվում է թաղանթի հաստության կառավարելիություն: Պահանջվող թաղանթի հաստությունը կարող է կրկնվել բազմիցս, ինչը կոչվում է թաղանթի հաստության կրկնելիություն: Քանի որ վակուումային փոշիացման ծածկույթի լիցքաթափման հոսանքը և նպատակային հոսանքը կարող են կառավարվել առանձին: Հետևաբար, փոշիացված թաղանթի հաստությունը կառավարելի է, և նախապես որոշված հաստությամբ թաղանթը կարող է հուսալիորեն նստեցվել: Բացի այդ, փոշիացման ծածկույթը կարող է ապահովել միատարր հաստությամբ թաղանթ մեծ մակերեսի վրա:
② Թաղանթի և հիմքի միջև ամուր կպչունություն
Ցողված ատոմների էներգիան 1-2 կարգով մեծ է գոլորշիացված ատոմներից։ Հիմքի վրա նստեցված բարձր էներգիայի ցողված ատոմների էներգիայի փոխակերպումը շատ ավելի բարձր է, քան գոլորշիացված ատոմներինը, ինչը առաջացնում է ավելի մեծ ջերմություն և ուժեղացնում է ցողված ատոմների և հիմքի միջև կպչունությունը։ Բացի այդ, որոշ բարձր էներգիայի ցողված ատոմներ առաջացնում են ներարկման տարբեր աստիճաններ՝ հիմքի վրա առաջացնելով կեղծդիֆուզիոն շերտ։ Բացի այդ, թաղանթի ձևավորման գործընթացում հիմքը միշտ մաքրվում և ակտիվանում է պլազմային շրջանում, որը հեռացնում է թույլ կպչունություն ունեցող ցողված ատոմները և մաքրում ու ակտիվացնում հիմքի մակերեսը։ Հետևաբար, ցողված թաղանթը ուժեղ կպչունություն ունի հիմքի հետ։
③ Կարելի է պատրաստել թիրախից տարբերվող նոր նյութական թաղանթ
Եթե փոշիացման ընթացքում ներմուծվի ռեակտիվ գազ՝ թիրախի հետ ռեակցիայի մեջ մտնելու համար, կարելի է ստանալ թիրախից բոլորովին տարբերվող նոր նյութական թաղանթ։ Օրինակ՝ որպես փոշիացման թիրախ օգտագործվում է սիլիցիումը, իսկ թթվածինը և արգոնը միասին տեղադրվում են վակուումային խցիկի մեջ։ Փոշուցումից հետո կարելի է ստանալ SiOz մեկուսիչ թաղանթ։ Տիտանը որպես փոշիացման թիրախ օգտագործելով՝ ազոտը և արգոնը միասին տեղադրվում են վակուումային խցիկի մեջ, և փոշիացումից հետո կարելի է ստանալ TiN փուլային ոսկեանման թաղանթ։
④ Բարձր մաքրություն և լավ որակ ֆիլմի
Քանի որ փոշիացման թաղանթի պատրաստման սարքում չկա մետաղական խտանյութի բաղադրիչ, մետաղական խտանյութի տաքացուցիչ նյութի բաղադրիչները չեն խառնվի փոշիացման թաղանթի շերտին։ Փոշեցման ծածկույթի թերություններն այն են, որ թաղանթի ձևավորման արագությունը ավելի դանդաղ է, քան գոլորշիացման ծածկույթինը, հիմքի ջերմաստիճանը ավելի բարձր է, այն հեշտությամբ է տուժում խառնուրդային գազից, և սարքի կառուցվածքն ավելի բարդ է։
Այս հոդվածը հրապարակվել է Guangdong Zhenhua-ի կողմից, որը արտադրող է։վակուումային ծածկույթների սարքավորումներ
Հրապարակման ժամանակը. Մարտ-09-2023