U usporedbi s drugim tehnologijama nanošenja premaza, magnetronsko raspršivanje karakteriziraju sljedeće značajke: radni parametri imaju veliki dinamički raspon podešavanja brzine nanošenja premaza, a debljina (stanje premazanog područja) može se lako kontrolirati, a ne postoje ograničenja u dizajnu geometrije magnetronske mete kako bi se osigurala ujednačenost premaza; nema problema s česticama kapljica u sloju filma; gotovo svi metali, legure i keramika mogu se pretvoriti u materijale za mete; a materijal za mete može se proizvesti DC ili RF magnetronskim raspršivanjem, što može generirati premaze od čistog metala ili legure s preciznim omjerom, kao i metalne reaktivne filmove s sudjelovanjem plina. DC ili RF raspršivanjem moguće je generirati premaze od čistog metala ili legure s preciznim i konstantnim omjerima, kao i metalne reaktivne filmove s sudjelovanjem plina, kako bi se zadovoljili zahtjevi raznolikosti tankih filmova i visoke preciznosti. Tipični procesni parametri za magnetronsko raspršivanje premaza su: radni tlak od 0,1 Pa; napon mete od 300~700 V; gustoća snage mete od 1~36 W/cm².
Specifične karakteristike magnetronskog raspršivanja su:
(1) Visoka brzina taloženja. Zbog upotrebe magnetronskih elektroda, može se postići vrlo velika ionska struja bombardiranja mete, tako da su brzina raspršivanja na površini mete i brzina taloženja filma na površini podloge vrlo visoke.
(2) Visoka energetska učinkovitost. Vjerojatnost sudara niskoenergetskih elektrona i atoma plina je visoka, pa se brzina disocijacije plina znatno povećava. Sukladno tome, impedancija izbojnog plina (ili plazme) znatno se smanjuje. Stoga, u usporedbi s istosmjernim dipolnim raspršivanjem, čak i ako se radni tlak smanji s 1~10 Pa na 10-210-1 Pa, napon raspršivanja također se smanjuje s tisuća volti na stotine volti, a učinkovitost raspršivanja i brzina taloženja povećavaju se za redove veličine.
–Ovaj članak objavljujeproizvođač strojeva za vakuumsko premazivanjeGuangdong Zhenhua
Vrijeme objave: 01.12.2023.