Ve srovnání s jinými technologiemi nanášení povlaků se magnetronové naprašování vyznačuje následujícími vlastnostmi: pracovní parametry mají velký dynamický rozsah nastavení rychlosti nanášení povlaku a tloušťku (stav potahované plochy) lze snadno regulovat a neexistují žádná konstrukční omezení geometrie magnetronového terče, aby byla zajištěna rovnoměrnost povlaku; neexistuje problém s kapénkami ve vrstvě filmu; téměř všechny kovy, slitiny a keramika mohou být použity jako terčové materiály; a terčový materiál lze vyrobit stejnosměrným nebo vysokofrekvenčním magnetronovým naprašováním, které může generovat povlaky z čistého kovu nebo slitiny s přesným poměrem, stejně jako kovově reaktivní filmy s účastí plynu. Prostřednictvím stejnosměrného nebo vysokofrekvenčního naprašování je možné generovat povlaky z čistého kovu nebo slitiny s přesnými a konstantními poměry, stejně jako kovově reaktivní filmy s účastí plynu, aby se splnily požadavky na rozmanitost tenkých vrstev a vysokou přesnost. Typické procesní parametry pro magnetronové naprašování jsou: pracovní tlak 0,1 Pa; napětí terče 300~700V; hustota výkonu terče 1~36W/cm².
Specifické vlastnosti magnetronového naprašování jsou:
(1) Vysoká rychlost depozice. Díky použití magnetronových elektrod lze dosáhnout velmi velkého iontového proudu bombardovaného terčem, takže rychlost leptání naprašováním na povrchu terče a rychlost depozice filmu na povrchu substrátu jsou velmi vysoké.
(2) Vysoká energetická účinnost. Pravděpodobnost srážky nízkoenergetických elektronů s atomy plynu je vysoká, takže rychlost disociace plynu se výrazně zvyšuje. V souladu s tím se výrazně snižuje impedance výbojového plynu (nebo plazmatu). Proto se u stejnosměrného magnetronového naprašování ve srovnání s stejnosměrným dipólovým naprašováním, i když se pracovní tlak sníží z 1~10 Pa na 10-210-1 Pa, naprašovací napětí se také sníží z tisíců voltů na stovky voltů, čímž se účinnost naprašování a rychlost nanášení řádově zvýší.
–Tento článek vydávávýrobce vakuových lakovacích strojůGuangdong Zhenhua
Čas zveřejnění: 1. prosince 2023