① Bona cuntrollabilità è ripetibilità di u spessore di u film
S'ellu si pò cuntrullà u spessore di u film à un valore predeterminatu si chjama cuntrullabilità di u spessore di u film. U spessore di u film necessariu pò esse ripetutu parechje volte, ciò chì si chjama ripetibilità di u spessore di u film. Perchè a corrente di scarica è a corrente di destinazione di u rivestimentu di sputtering à vuoto ponu esse cuntrullate separatamente. Dunque, u spessore di u film sputtering hè cuntrullabile, è u film cù un spessore predeterminatu pò esse depositatu in modu affidabile. Inoltre, u rivestimentu di sputtering pò ottene un film cù un spessore uniforme nantu à una grande superficia.
② Forte adesione trà u filmu è u substratu
L'energia di l'atomi sputterizzati hè 1-2 ordini di magnitudine più alta di quella di l'atomi evaporati. A cunversione di l'energia di l'atomi sputterizzati à alta energia depositati nantu à u substratu hè assai più alta di quella di l'atomi evaporati, ciò chì genera un calore più altu è migliora l'adesione trà l'atomi sputterizzati è u substratu. Inoltre, alcuni atomi sputterizzati à alta energia producenu diversi gradi d'iniezione, furmendu un stratu di pseudodiffusione nantu à u substratu. Inoltre, u substratu hè sempre pulitu è attivatu in a regione di plasma durante u prucessu di furmazione di u film, ciò chì rimuove l'atomi sputterizzati cù una debule adesione, è purifica è attiva a superficia di u substratu. Dunque, u film sputterizatu hà una forte adesione à u substratu.
③ Un novu filmu di materiale differente da u target pò esse preparatu
Sè u gasu reattivu hè introduttu durante u sputtering per fà lu reagisce cù u bersagliu, si pò ottene un novu filmu di materiale cumpletamente differente da u bersagliu. Per esempiu, u siliciu hè adupratu cum'è bersagliu di sputtering, è l'ossigenu è l'argon sò messi inseme in a camera à vuoto. Dopu u sputtering, si pò ottene un filmu isolante di SiOz. Usendu u titaniu cum'è bersagliu di sputtering, l'azotu è l'argon sò messi inseme in a camera à vuoto, è si pò ottene u filmu simile à l'oru di fase TiN dopu u sputtering.
④ Alta purezza è bona qualità di film
Siccomu ùn ci hè micca un cumpunente di crucible in u dispusitivu di preparazione di u filmu di sputtering, i cumpunenti di u materiale di riscaldamentu di u crucible ùn saranu micca mischiati in u stratu di filmu di sputtering. I svantaghji di u rivestimentu di sputtering sò chì a velocità di furmazione di u filmu hè più lenta di quella di u rivestimentu di evaporazione, a temperatura di u substratu hè più alta, hè faciule d'esse affettatu da u gasu d'impurità, è a struttura di u dispusitivu hè più cumplessa.
Questu articulu hè publicatu da Guangdong Zhenhua, un fabricatore diequipaggiamentu di rivestimentu à vuoto
Data di publicazione: 09 di marzu di u 2023