U poređenju s drugim tehnologijama nanošenja premaza, magnetronsko raspršivanje karakteriziraju sljedeće karakteristike: radni parametri imaju veliki dinamički raspon podešavanja brzine nanošenja premaza, a debljina (stanje premazane površine) se može lako kontrolirati, a ne postoje ograničenja u dizajnu geometrije magnetronske mete kako bi se osigurala ujednačenost premaza; nema problema s česticama kapljica u sloju filma; gotovo svi metali, legure i keramika mogu se pretvoriti u materijale za mete; a materijal za mete može se proizvesti DC ili RF magnetronskim raspršivanjem, koje može generirati premaze od čistog metala ili legure s preciznim omjerom, kao i metalne reaktivne filmove s učešćem plina. DC ili RF raspršivanjem moguće je generirati premaze od čistog metala ili legure s preciznim i konstantnim omjerima, kao i metalne reaktivne filmove s učešćem plina, kako bi se zadovoljili zahtjevi raznolikosti tankih filmova i visoke preciznosti. Tipični procesni parametri za magnetronsko raspršivanje premaza su: radni pritisak od 0,1 Pa; napon mete od 300~700 V; gustoća snage mete od 1~36 W/cm².
Specifične karakteristike magnetronskog raspršivanja su:
(1) Visoka brzina taloženja. Zbog upotrebe magnetronskih elektroda, može se postići vrlo velika struja iona bombardiranja mete, tako da su brzina raspršivanja nagrizanja na površini mete i brzina taloženja filma na površini supstrata vrlo visoke.
(2) Visoka energetska efikasnost. Vjerovatnoća sudara elektrona niske energije i atoma gasa je visoka, tako da se brzina disocijacije gasa znatno povećava. Shodno tome, impedancija gasa za pražnjenje (ili plazme) se znatno smanjuje. Stoga, u poređenju sa DC dipolnim raspršivanjem, čak i ako se radni pritisak smanji sa 1~10 Pa na 10-210-1 Pa, napon raspršivanja se također smanjuje sa hiljada volti na stotine volti, efikasnost raspršivanja i brzina taloženja se povećavaju za redove veličine.
–Ovaj članak je objavljen od straneproizvođač mašina za vakuumsko premazivanjeGuangdong Zhenhua
Vrijeme objave: 01.12.2023.