① Добра контролируемост и повторяемост на дебелината на филма
Дали дебелината на филма може да се контролира до предварително определена стойност се нарича контролируемост на дебелината на филма. Необходимата дебелина на филма може да се повтаря многократно, което се нарича повторяемост на дебелината на филма. Тъй като токът на разряд и целевият ток на вакуумно разпрашително покритие могат да се контролират поотделно, дебелината на разпрашения филм е контролируема и филмът с предварително определена дебелина може да се отложи надеждно. Освен това, разпрашителното покритие може да получи филм с равномерна дебелина върху голяма повърхност.
② Силна адхезия между филма и основата
Енергията на разпрашените атоми е с 1-2 порядъка по-висока от тази на изпарените атоми. Преобразуването на енергията на високоенергийните разпрашени атоми, отложени върху субстрата, е много по-високо от това на изпарените атоми, което генерира по-висока топлина и подобрява адхезията между разпрашените атоми и субстрата. Освен това, някои високоенергийни разпрашени атоми произвеждат различна степен на инжектиране, образувайки псевдодифузионен слой върху субстрата. В допълнение, субстратът винаги се почиства и активира в плазмената област по време на процеса на образуване на филма, което премахва разпрашените атоми със слаба адхезия и пречиства и активира повърхността на субстрата. Следователно, разпрашеният филм има силна адхезия към субстрата.
③ Може да се приготви нов филм от материал, различен от целевия
Ако по време на разпрашването се въведе реактивен газ, който да реагира с мишената, може да се получи нов материален филм, напълно различен от мишената. Например, силиций се използва като мишена за разпрашване, а кислород и аргон се въвеждат заедно във вакуумната камера. След разпрашването може да се получи изолационен филм от SiOz. Използвайки титан като мишена за разпрашване, азот и аргон се въвеждат заедно във вакуумната камера и след разпрашването може да се получи фазовият златоподобен TiN филм.
④ Висока чистота и добро качество на филма
Тъй като в устройството за подготовка на разпрашително покритие няма тигелни компоненти, компонентите на материала на тигелния нагревател няма да се смесят в слоя разпрашително покритие. Недостатъците на разпрашителното покритие са, че скоростта на образуване на филма е по-бавна от тази на изпарителното покритие, температурата на основата е по-висока, лесно е да бъде засегната от примесни газове и структурата на устройството е по-сложна.
Тази статия е публикувана от Guangdong Zhenhua, производител наоборудване за вакуумно покритие
Време на публикуване: 09 март 2023 г.