У параўнанні з іншымі тэхналогіямі нанясення пакрыццяў, магнетроннае распыленне характарызуецца наступнымі асаблівасцямі: рабочыя параметры маюць шырокі дынамічны дыяпазон рэгулявання хуткасці нанясення пакрыцця і таўшчыні (стану пакрытай плошчы) можна лёгка кантраляваць, і няма канструктыўных абмежаванняў на геаметрыю магнетроннай мішэні, што забяспечвае аднастайнасць пакрыцця; няма праблемы з кропелькамі часціц у плёнкавым пласце; практычна ўсе металы, сплавы і кераміка могуць быць ператвораны ў мішэневыя матэрыялы; і мішэневы матэрыял можа быць атрыманы шляхам магнетроннага распылення пастаяннага або радыёчастотнага току, што дазваляе ствараць пакрыцці з чыстага металу або сплаву з дакладным суадносінамі, а таксама металічныя рэактыўныя плёнкі з удзелам газу. З дапамогай пастаяннага або радыёчастотнага распылення можна ствараць пакрыцці з чыстага металу або сплаву з дакладнымі і пастаяннымі суадносінамі, а таксама металічныя рэактыўныя плёнкі з удзелам газу, каб задаволіць патрабаванні разнастайнасці тонкіх плёнак і высокай дакладнасці. Тыповыя параметры працэсу для магнетроннага распылення: працоўны ціск 0,1 Па; напружанне мішэні 300~700 В; шчыльнасць магутнасці мішэні 1~36 Вт/см².
Асаблівасці магнетроннага распылення:
(1) Высокая хуткасць нанясення. Дзякуючы выкарыстанню магнетронных электродаў можна атрымаць вельмі вялікі іённы ток бамбардзіроўкі мішэні, таму хуткасць распылення на паверхні мішэні і хуткасць нанясення плёнкі на паверхню падкладкі вельмі высокія.
(2) Высокая энергаэфектыўнасць. Верагоднасць сутыкнення нізкаэнергетычных электронаў з атамамі газу высокая, таму хуткасць дысацыяцыі газу значна павялічваецца. Адпаведна, імпеданс разраднага газу (або плазмы) значна зніжаецца. Такім чынам, пры магнетронным распыленні пастаянным токам у параўнанні з дыпольным распыленнем пастаянным токам, нават калі рабочы ціск зніжаецца з 1~10 Па да 10⁻²⁻¹ Па, напружанне распылення таксама зніжаецца з тысяч вольт да соцень вольт, эфектыўнасць распылення і хуткасць нанясення павялічваюцца на парадкі.
–Гэты артыкул апублікаванывытворца вакуумных пакрыццяўГуандун Чжэньхуа
Час публікацыі: 01.12.2023