Digər örtük texnologiyaları ilə müqayisədə, maqnetron püskürtmə örtüyü aşağıdakı xüsusiyyətlərlə xarakterizə olunur: işçi parametrlər örtüyün çökmə sürətinin və qalınlığının (örtülmüş ərazinin vəziyyəti) böyük bir dinamik tənzimləmə diapazonuna malikdir və asanlıqla idarə edilə bilər və örtünün vahidliyini təmin etmək üçün maqnetron hədəfinin həndəsəsində dizayn məhdudiyyəti yoxdur; film qatında damlacıq hissəciklərinin problemi yoxdur; demək olar ki, bütün metallar, ərintilər və keramika hədəf materiallara çevrilə bilər; və hədəf material dəqiq nisbətdə təmiz metal və ya ərinti örtükləri, həmçinin qazın iştirakı ilə metal reaktiv filmlər yarada bilən DC və ya RF maqnetron püskürməsi ilə istehsal edilə bilər. DC və ya RF püskürtmə vasitəsilə nazik təbəqə müxtəlifliyi və yüksək dəqiqlik tələblərinə cavab vermək üçün dəqiq və sabit nisbətlərə malik təmiz metal və ya ərinti örtükləri, həmçinin qazın iştirakı ilə metal reaktiv filmlər yaratmaq mümkündür. Magnetron püskürtmə örtüyü üçün tipik proses parametrləri bunlardır: 0,1Pa iş təzyiqi; hədəf gərginliyi 300~700V; hədəf güc sıxlığı 1~36W/sm².
Magnetron püskürtmənin spesifik xüsusiyyətləri bunlardır:
(1) Yüksək çökmə dərəcəsi. Magnetron elektrodlarının istifadəsi sayəsində çox böyük hədəf bombardmanı ion cərəyanı əldə edilə bilər, buna görə də hədəf səthdə püskürtmə sürəti və substrat səthində film çökmə sürəti çox yüksəkdir.
(2) Yüksək enerji səmərəliliyi. Aşağı enerjili elektronların və qaz atomlarının toqquşma ehtimalı yüksəkdir, buna görə də qazın dissosiasiya dərəcəsi xeyli artır. Müvafiq olaraq, axıdılan qazın (və ya plazmanın) empedansı çox azalır. Buna görə, DC dipol püskürtmə ilə müqayisədə DC maqnetron püskürməsi, hətta iş təzyiqi 1 ~ 10Pa-dan 10-210-1Pa püskürtmə gərginliyi də minlərlə voltdan yüzlərlə volta endirilsə belə, püskürtmə səmərəliliyi və çökmə sürəti böyüklük əmrləri ilə artır.
- Bu məqalə nəşr olunurvakuum örtük maşın istehsalçısıGuangdong Zhenhua
Göndərmə vaxtı: 01 dekabr 2023-cü il