HFCVD0606

Die Vakuumbeschichtungskammer der CVD-Anlage verfügt über eine unabhängige, zweilagige Wasserkühlung, die eine effiziente und gleichmäßige Kühlung gewährleistet und sich durch eine sichere und stabile Konstruktion auszeichnet. Die Anlage ist mit Doppeltüren, mehreren Sichtfenstern und diversen Erweiterungsschnittstellen ausgestattet, was den Anschluss externer Peripheriegeräte wie Infrarot-Temperaturmessgeräte, Spektralanalysegeräte, Videoüberwachungssysteme und Thermoelemente erleichtert. Das fortschrittliche Designkonzept vereinfacht die tägliche Wartung, Konfigurationsänderungen und Upgrades der Anlage und reduziert so effektiv die Betriebs- und Upgradekosten.

Ausstattungsmerkmale:

1. Die Aufblaskomponenten der Anlage umfassen hauptsächlich einen Massendurchflussmesser, ein Magnetventil und einen Gasmischbehälter. Diese gewährleisten die genaue Steuerung des Prozessgasstroms, eine gleichmäßige Vermischung und die sichere Trennung verschiedener Gase. Zudem können Gassystemkomponenten für die Verwendung mit flüssigen Gasquellen ausgewählt werden, was die individuelle Auswahl einer breiten Palette flüssiger Kohlenstoffquellen sowie die sichere Verwendung von synthetischem leitfähigem Diamant und flüssigen Borquellen für Elektroden ermöglicht.
2. Die Luftabsauganlage ist mit einer leisen und effizienten Drehschieber-Vakuumpumpe und einem Turbomolekularpumpensystem ausgestattet, das schnell das erforderliche Hochvakuum erreicht. Zur Vakuummessung dient ein kombiniertes Vakuummeter mit Widerstands- und Ionisationsvakuummeter sowie ein kapazitives Filmvakuummeter, das den Druck verschiedener Prozessgase in einem breiten Bereich messen kann. Der Abscheidungsdruck wird vollautomatisch über ein hochpräzises Proportionalventil geregelt.
3. Die Kühlwasserkomponente ist mit Mehrkanal-Wasserdruck-, Durchfluss- und Temperaturmessung sowie automatischer Softwareüberwachung ausgestattet. Die verschiedenen Kühlkomponenten arbeiten unabhängig voneinander, was eine schnelle Fehlerdiagnose ermöglicht. Alle Zweige verfügen über separate Ventilschalter, was für Sicherheit und Effizienz sorgt.
4. Die elektrischen Steuerungskomponenten verfügen über ein großflächiges LCD-Display mit Mensch-Maschine-Schnittstelle und arbeiten mit einer vollautomatischen SPS-Steuerung zusammen, um die Bearbeitung und den Import von Prozessformeln zu vereinfachen. Die Änderungen und Werte verschiedener Parameter werden grafisch dargestellt, und die Geräte- und Prozessparameter werden automatisch erfasst und archiviert, um die Fehlersuche und die statistische Datenanalyse zu erleichtern.
5. Der Werkstückträger ist mit einem Servomotor zur Steuerung des Hebens und Senkens des Substrattisches ausgestattet. Es kann ein Substrattisch aus Graphit oder Rotkupfer gewählt werden. Die Temperatur wird mittels eines Thermoelements gemessen.
6. Die Rackkomponenten können je nach Kundenwunsch als Ganzes oder einzeln konstruiert werden, um den speziellen Handhabungsanforderungen der Kunden gerecht zu werden.
7. Die Dichtungsplatten sind formschön und elegant. Die Dichtungsplatten in den verschiedenen Funktionsmodulbereichen des Geräts lassen sich schnell demontieren oder unabhängig voneinander öffnen und schließen, was die Handhabung sehr komfortabel macht.

Heißdraht-CVD-Anlagen eignen sich zur Abscheidung von Diamantmaterialien, einschließlich Dünnschichtbeschichtungen, selbsttragenden Dickschichten, mikrokristallinem und nanokristallinem Diamant, leitfähigem Diamant usw. Sie werden hauptsächlich für verschleißfeste Schutzbeschichtungen von Hartmetall-Schneidwerkzeugen, Halbleitermaterialien wie Silizium und Siliziumkarbid, Wärmeableitungsbeschichtungen von Geräten, bordotierten leitfähigen Diamantelektroden, Ozon-Desinfektion von Elektrolytwasser oder Abwasserbehandlung eingesetzt.